光自励振動型フォトメカニカル材料の開発

2017 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 15K05524
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 高分子化学
• 研究機関: 東京工科大学
• 研究代表者: 山下 俊 東京工科大学, 工学部, 教授 (70210416)
• 研究期間 (年度): 2015-04-01 – 2018-03-31
• キーワード: ゲル / フォトメカニカル / 振動 / フォトクロミック

研究成果の概要

高分子ゲルは3次元網目構造をもつ材料でありソフトマテリアルとしてバイオ応用、マイクロアクチュエーター等としての応用が期待されている。本研究では不連続相転移を行うポリアクリルアミドゲルとフォトクロミック色素としてアクリル化アミノアゾベンゼンおよびメタクリル化アミノアゾベンゼンを合成し、および増感剤としてアクリル化ヒドロキシベンゾフェノンを組み合わせた材料を合成し、光増感を経たフォトメカニカル材料の開発を行った。

自由記述の分野

高分子化学、光機能材料学