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2016 年度 実施状況報告書

パルス放電を利用した、金属表面への絶縁性機能材料の高強度付与技術の研究

研究課題

研究課題/領域番号 15K05734
研究機関静岡理工科大学

研究代表者

後藤 昭弘  静岡理工科大学, 理工学部, 教授 (00711558)

研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2018-03-31
キーワード放電 / パルス / 表面処理 / 絶縁材料 / 密着強度 / 亜鉛 / 蛍光材料
研究実績の概要

本研究では、パルス放電を利用して、絶縁材料を工作物へ移動させるために、低沸点材料であるZn(亜鉛)をバインダー兼搬送媒体とすることを検討している。絶縁材料とZnとを混合した粉末を圧縮成形して電極とし、電極・工作物間に放電を発生させ、絶縁材料を工作物へ搬送させる。工作物上に付着した絶縁材料の中に不純物が残らせず、絶縁材料を強固に付着させることを狙っている。
平成28年度は、当初、放電電流波形を変化させてその影響を調べ、最適な電流波形を見つける計画であったが、電流波形を変化させても皮膜からZnをなくすことができなかったため、計画を変更し、皮膜として付着している電極成分である機能性の絶縁材料がどのように工作物表面に付着しているかを調査することと、機能性絶縁材料である蛍光材料を本方法で付着させる技術の試行を優先した。
皮膜中にバインダー兼搬送媒体であるZnが残存しているということは、工作物に強固に付着させたい絶縁材料が、Znに混ざって移動しているだけで強固に付着していない懸念がある。そこで、EPMAによる元素マッピングとカソードルミネッセンス像を利用して絶縁材料の付着の様子を観察した。絶縁材料としては、蛍光材料であるEu(ユーロピウム)をドープしたSiAlON(サイアロン)を用いた。放電による皮膜形成直後の様子と、処理後に工作物表面のZnを希塩酸で除去した状態の様子とを観察したところ、Znを除去しても、SiAlONの付着量はほぼ変わらず、SiAlONが直接工作物に付着していることが明らかとなった。
また、機能性絶縁材料の付着の試みとして、蛍光材料と本技術の相性について検討した。その結果、比較的低融点の蛍光材料であるZn2SiO4:Mn2+を用いた場合には、発光が確認できなかったが、高融点材料であるEuをドープしたSiAlONを用いた場合には、発光を確認できた。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

平成27度までに、Znをバインダー兼搬送媒体とした電極を製作し、電極材料を工作物上に付着させることができたので、28年度は被膜中からZnを除去し、絶縁材料の純粋な皮膜を形成する条件の確立を目指した。しかし、矩形波に加え、複雑な電流波形も試みたが、皮膜からZnをなくすには至らなかった。学会等では、Znをなくす必要はないのではないか、という意見も頂いたが、放電のみで絶縁材料を付着できる方が、工程が簡単にできるため、放電のみで極力少なくすることを目指したい。
一方、平成28年度は、皮膜としての絶縁材料がどのように付着しているかを、明確にすることができた。EPMAによる元素マッピングとカソードルミネッセンス像を利用して絶縁材料の付着の様子を観察した。絶縁材料としては、蛍光材料であるEuをドープしたSiAlONを用いた。放電による皮膜形成後の様子と、処理後に工作物表面のZnを希塩酸で除去した状態とを観察したところ、Znを除去しても、SiAlONの付着量はほぼ変わらず、SiAlONが直接工作物に付着していることが明らかとなり、本技術の有用性が確認できた。
また、実用化を目指して、計画を前倒しし、各種蛍光材料を用いて、付着試験を実施した。以前にも、蛍光材料での付着試験を行ったが、28年度は、各種材料を用いて試験を行い、本技術の適用可能範囲を見極めた。その結果、同じ蛍光材料でも、Zn2SiO4:Mn2+等のように融点が低い材料の場合には、放電の熱により材料の機能が失われることがあることがわかった。一方で、融点が高いSiAlONの場合には、皮膜を分析するとSiAlONの構成元素の存在箇所と発光箇所を示すカソードルミネッセンス像の場所がほぼ同一であることから、放電の熱で分解されず、工作物表面に付着したと考えることができる。
以上のように、計画の一部に変更があるもののおおむね順調に進展している。

今後の研究の推進方策

平成29年度は、平成28年度に実施した放電電流の波形を変化させた処理条件の探索を深堀する。電極成形条件と電気条件との組み合わせについてもさらに詳細に検討する。また、28年度に実施できなかった気中でのパルス放電の効果についても確認する。平成28年度の成果からも、油中での放電を利用した場合には、放電のパルス条件によっては、皮膜に大量のCが混入してしまうことがあることがわかった。気中での放電を利用するとそのような現象を防止でき、放電パルス条件の使用範囲を拡大できる可能性がある。しかし一方では、気中の放電は、短絡等、加工現象の不安定を招き、また、蒸発したZnが工作物に再付着する等の問題を引き起こす可能性もある。気中放電の利点・欠点を見極める予定である。
また、28年度に一部前倒しした、絶縁性の各種機能材料を工作物に形成する試験を実施する。発光(蛍光)材料等の成膜を行い、成膜した各種機能材料皮膜の性能評価を行う。実用化に向けて、自動車関連メーカー、金型メーカー等に情報提供を行い、意見をいただく予定である。

次年度使用額が生じた理由

皮膜としての絶縁材料がどのように付着しているかを、明確にすることを優先したため、当初計画していた材料購入のための支出が少なくなった。被膜分析のためには、EPMA(電子線マイクロアナライザ)による元素マッピングとカソードルミネッセンスを利用した。この装置は、外部委託した場合には高額な費用が必要であるが、学内設備を利用したため、支出をほぼ0に抑えることができた。
また、当初海外の学会発表の費用を本研究日から支出する計画であったが、他の予算から支出したため、本研究日の支出を抑えることができた。

次年度使用額の使用計画

平成28年度に購入しなかった各種試験用の材料の購入に充てる計画である。また、平成28年度の海外旅費に計画していた予算は、(支出を予定していなかった)電極成形装置の成形条件を拡大するための費用に充てる計画である。

  • 研究成果

    (10件)

すべて 2017 2016 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち謝辞記載あり 1件) 学会発表 (7件) (うち国際学会 2件、 招待講演 1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] 放電加工の技術を用いた表面処理技術2017

    • 著者名/発表者名
      後藤昭弘
    • 雑誌名

      型技術

      巻: 臨時増刊 ページ: 022-025

    • 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] 電気加工の技術動向2017

    • 著者名/発表者名
      後藤昭弘
    • 雑誌名

      日本マリンエンジニアリング学会誌

      巻: Vol.52,No.3 ページ: 31-35

  • [学会発表] パルス放電による発光材料付着の研究 -発光材料付着の様子の観察-2017

    • 著者名/発表者名
      高橋秀仁,後藤昭弘,土肥稔
    • 学会等名
      精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      慶應義塾大学
    • 年月日
      2017-03-15
  • [学会発表] パルス放電を利用したZn2SiO4:Mn2+蛍光体薄膜の作製2016

    • 著者名/発表者名
      服部誠, 鈴木優弥, 後藤昭弘, 土肥稔
    • 学会等名
      応用物理学会「多元系化合物・太陽電池研究会」年末講演会
    • 発表場所
      国立研究開発法人 産業技術総合研究所 福島再生可能エネルギー研究所
    • 年月日
      2016-12-09
  • [学会発表] パルス放電による発光材料付着の研究2016

    • 著者名/発表者名
      高橋秀仁,松下真大,後藤昭弘,土肥稔
    • 学会等名
      電気加工学会全国大会2016
    • 発表場所
      名古屋工業大学
    • 年月日
      2016-12-01
  • [学会発表] 電気加工の技術動向2016

    • 著者名/発表者名
      後藤昭弘
    • 学会等名
      第86回マリンエンジニアリング学術講演会
    • 発表場所
      姫路商工会議所
    • 年月日
      2016-10-24
    • 招待講演
  • [学会発表] New Electrical Machining Technology - Electrical Discharge Coating -2016

    • 著者名/発表者名
      Akihiro Goto
    • 学会等名
      2016 JSU-SIST International Mechanical Engineering and Information Symposium
    • 発表場所
      江蘇大学(中国)
    • 年月日
      2016-09-15
  • [学会発表] Preparation of Zn2SiO4:Mn2+ films by electrical discharge pulse method2016

    • 著者名/発表者名
      Makoto Hattori, Yuya Suzuki, Akihiro Goto, Minoru Dohi
    • 学会等名
      20th International Conference on Ternary and Multinary Compounds (ICTMC-20)
    • 発表場所
      the Nationale Akademie der Wissenschaften Leopoldina
    • 年月日
      2016-09-08
    • 国際学会
  • [学会発表] Preparation of SiAlON phosphor films by electrical discharge pulse method2016

    • 著者名/発表者名
      Minoru Dohi, Makoto Hattori, Hidehito Takahashi, Masahiro Matsushita, Kouhei Kondou, Mamoru Sugita, Seiya Yamanaka and Akihiro Goto
    • 学会等名
      20th International Conference on Ternary and Multinary Compounds (ICTMC-20)
    • 発表場所
      the Nationale Akademie der Wissenschaften Leopoldina
    • 年月日
      2016-09-06
    • 国際学会
  • [備考] 先端加工研究室

    • URL

      http://www.sist.ac.jp/me/goto/

URL: 

公開日: 2018-01-16  

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