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本研究では、エッジメンバーとしてハフニアを含む酸化物共晶系の耐環境皮膜をSiCセラミックス表面に成膜する手法を開発した。一例として、Al2O3-HfO2共晶に着目し、集光加熱法により共晶皮膜をSiC基材上へ成膜した。融液中のアルミナ成分はSiC基材上のCと反応して還元され、AlO種として融液から気相に除外され、融液中の組成はアルミナ不足の共晶となり、HfO2相が初晶としてSiC基材上に凝固して緻密な層を形成する。この相は基材に近いところがHfC-HfO2の傾斜機能層となる。Al2O3-HfO2共晶構造は、中間層である傾斜機能層のトップから直接成長する。
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