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2017 年度 実施状況報告書

銅ダマシン配線細孔埋込み時の一価銅イオンの役割

研究課題

研究課題/領域番号 15K06511
研究機関大阪府立大学

研究代表者

近藤 和夫  大阪府立大学, 研究推進機構, 教授 (50250478)

研究分担者 金子 豊  京都大学, 情報学研究科, 助教 (00169583) [辞退]
齊藤 丈靖  大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70274503) [辞退]
横井 昌幸  大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 研究員 (80359348) [辞退]
研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2019-03-31
キーワード銅めっき / 穴埋め / 添加剤 / 塩素 / SPS / 電極反応速度解析 / 一価銅
研究実績の概要

回転リング-デイスクを用いて塩素と臭素との共存下でのSPSとその誘導体の促進作用を検討した。デイスクの銅を溶解して一価銅を発生させると促進剤量の増大に伴いリングの正電流が増大する。塩素の共存下ではSPSとMPSとがよい促進効果を、また臭素の共存下ではPDSHが促進効果を示す。PDSHが4ppmで臭素が50ppmの時促進効果が最大となる。Ion = - 20 mA/cm2のパルスリバース電流でPDSH 2 ppm 、塩素50 ppmの時ビアが完全充填してリングの正電流の増大と対応する。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

・促進剤SPSに代わる新促進剤の探索とその有効性の確認
・回転リングディスクを用いた促進作用のモニター
などおおむね順調に進捗してる

今後の研究の推進方策

前項の現在までの進捗状況にて記載しております方策。 また本研究の継続内容で申請いたしました新科研が新規採択されました。 継続研究していきます。

次年度使用額が生じた理由

回転リングディスクによるSPSの促進作用検出に不十分なところがあるため、来年度も継続検証したい。リング電圧が酸化のみでなく還元電圧でも検出できる可能性がでてきたため。また本手法を完成させると従来法のCVS法の促進剤モニター法よりもより高精度のモニター技術が完成する可能性が大なため。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2018 2017

すべて 学会発表 (2件) 図書 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [学会発表] Reduction of stress due to annealing of copper TSV by the low TCE Copper2018

    • 著者名/発表者名
      Van Quy Dinh・近藤和夫・平藤哲司
    • 学会等名
      表面技術協会
  • [学会発表] Monitoring of SPS concentration in copper electroplating bath by cyclic voltammetry stripping using a rotating ringdisk electrode2018

    • 著者名/発表者名
      Anh Van Nhat Tran・近藤和夫・平藤哲司
    • 学会等名
      表面技術協会
  • [図書] Cuprous is key to acceleration in Copper bottom up filling2017

    • 著者名/発表者名
      Kazuo Kondo
    • 総ページ数
      50
    • 出版者
      Lambert
  • [産業財産権] 銅メッキ液分析装置、銅メッキ液分析システムおよび銅メッキ液分析方法2018

    • 発明者名
      近藤和夫・中山直
    • 権利者名
      近藤和夫・中山直
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2018-034883

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公開日: 2018-12-17  

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