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2018 年度 研究成果報告書

小型マイクロビーム装置における負イオン源に関する研究

研究課題

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研究課題/領域番号 15K06678
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 原子力学
研究機関国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 (2016-2018)
国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 (2015)

研究代表者

大久保 猛  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 放射線高度利用施設部, 主幹研究員(定常) (40446456)

研究期間 (年度) 2015-10-21 – 2019-03-31
キーワードイオンビーム / マイクロビーム / プロトンビーム / PBW / 小型化
研究成果の概要

水素イオンマイクロビームは直接描画技術PBW(Proton Beam Writing)による三次元微細加工への応用が切望されており、この技術の普及を目的として、ビームの加速・集束を同時に行う加速レンズを用いた小型イオンマイクロビーム装置の開発を行っている。
本研究では、正水素イオンよりもビーム径を小さくできる負水素イオンのビーム発生を行った。その結果、PBWによる微細加工に要求される10pAの電流値の確保、マイクロビーム化及びその利用を実現できる見通しを得た。

自由記述の分野

イオンビーム工学

研究成果の学術的意義や社会的意義

加速レンズ方式で『ガスイオンによる高エネルギーのマイクロビームをコンパクトな装置で形成する』というコンセプトは独自のものである。
本研究によって、PBWに利用できるイオンマイクロビームの実現見通しが得られたことで、3次元微細加工の精度が格段に向上することになり、スケールアップしたMeV級小型マイクロビーム装置の実現へ大きく前進する。このスペックのイオンビームは特に光通信用デバイスとして切望されている数マイクロメートルから数10マイクロメートル領域の立体構造体の研究開発にとって極めて有用なツールとなると考えられる。

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公開日: 2020-03-30  

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