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本研究では、室温・冷蔵温度環境において食品媒介感染症原因細菌のリステリアが示すストレス抵抗性、増殖性と病原性を解析し、温度条件で異なって発現される表現型のメカニズムを明らかにすることを目的とした。平成29年度には申請者が所属する研究室で分離した食品由来株のストレス応答性を異なる温度条件下で曝露する解析を行った。
菌株として、申請者が所属する研究室で食肉から分離して、血清型および遺伝子型を決定した菌株を用いた。菌株を致死的な酸（塩酸でpH2.5から3.5に調整したBHI培地あるいはPBS）および過酸化水素（60 mM）に曝露した。曝露温度条件は、前年度の解析と同じ20℃と37℃とした。一定時間曝露して曝露菌液の一部を回収し、段階希釈をした後、寒天培地上に発育したコロニー数を計測することで、曝露開始時および曝露後の菌数を得た。以上からストレス曝露に対する生残率を算出した。
野外分離リステリア株を酸と過酸化水素に曝露したところ、全てが20℃よりも37℃で高感受性であった。以上から、リステリアのストレスに対する生残性の解析は、様々な温度条件で行う必要のあることが改めて確認された。この解析では、共通の汚染源に由来すると考えられる持続汚染株のストレス応答性を解析した。持続汚染株は高いストレス応答性をもつと予想されたが、その一部は予想に反して酸に高い感受性を示した。これら菌株の酸感受性について詳細な解析したところ、対照株（酸低感受性株）は、ストレスに曝露する際に低栄養のPBSよりも高栄養のBHIを用いた方が高い生残性を示した一方、酸高感受性持続汚染株はBHIとPBSの中で同じような生残性を示すことがわかった。以上から、用いた対照株と酸感受性持続汚染株の間で酸耐性機序に違いのあることが示唆された。また、酸高感受性持続汚染株は酸曝露されることが少ない環境で発育していたことが示唆された。
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