金属アレルギー発症過程における樹状細胞遊走因子の解析

2017 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 15K11161
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 補綴・理工系歯学
• 研究機関: 徳島大学
• 研究代表者: 渡邉 恵 徳島大学, 病院, 講師 (40380050)
• 研究分担者: 後藤 崇晴 徳島大学, 大学院医歯薬学研究部(歯学系), 助教 (00581381)
• 研究協力者: 石丸 直澄 ; WL HAVRAN ; UG KNAUS
• 研究期間 (年度): 2015-04-01 – 2018-03-31
• キーワード: 歯科用金属アレルギー / 樹状細胞 / 上皮角化細胞 / 細胞遊走

研究成果の概要

金属アレルギー発症過程において，樹状細胞と上皮角化細胞上に発現する細胞遊走関連因子を解析することで，金属アレルギー発症過程における細胞間の相互作用を明らかにすることを目的とした．樹状細胞，上皮角化細胞上ともにNiで刺激すると，上皮角化細胞上ではTSLP，樹状細胞上ではTSLPRの発現が上昇した．TSLPR siRNAをマウス耳介皮下に注入してNiアレルギーを惹起させると，アレルギー反応は減弱し，TSLP－TSLPRが金属アレルギー発症に何らかの役割を果たしていることが示唆された．

自由記述の分野

歯科補綴学