| 研究課題/領域番号 |
15K12320
|
|---|
| 研究機関 | 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター |
|---|
研究代表者 |
榎本 一郎 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 事業化支援本部多摩テクノプラザ複合素材開発セクター, 主任研究員 (10462970)
|
|---|
| 研究分担者 |
唐木 由佑 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 事業化支援本部多摩テクノプラザ複合素材開発セクター, 副主任研究員 (70587427)
武田 浩司 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 事業化支援本部多摩テクノプラザ複合素材開発セクター, 副主任研究員 (20560163)
高橋 俊也 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 事業化支援本部多摩テクノプラザ電子・機械グループ, 副主任研究員 (10614555)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
|
| キーワード | 表面改質 / ガス処理 / 表面分析 |
|---|
| 研究実績の概要 |
昨年度に続き、フッ素ガス処理により高強力繊維である超高分子量ポリエチレン繊維及びフィルムを処理し、改質効果に優れるスルホン基を導入した。改質の効果は、赤外分光分析（FT-IR）の全反射法（ATR）で表面の化学状態を調べ、深さ方向の分布は、X線光電子分光分析（XPS）で調べた。
フッ素ガス処理の条件を強くする（時間の延長、ガス導入量の増加等）とある時期までは処理条件の増大によって表面の官能基も増大するが、それ以上処理条件を増大しても表面の官能基が増えないか、かえって減少する傾向が見られた。そこで、X線光電子分光分析（XPS）でアルゴン（Ar）イオンクラスター銃を使用して、深さ方向の官能基の分布を調べた。この結果、表面処理の条件が増大するほど深さ方向への官能基の分布が増加していることが判明した。フッ素ガス処理の増大に伴い、ある時期までは最表面に多くの官能基が分布し、それ以降は内部へと進行していると考えている。但し、測定範囲が110 umφ、55 um φ程度で領域が狭いため、測定のばらつきも多い。このことは次年度の課題でもある。
また、原子間力顕微鏡のカンチレバーを表面改質することにより、試料表面の官能基の分布を調べた。試料表面の凹凸が予想以上に大きく、当初予定していた中性子反射率測定等の測定試料には不適であることが判明したが、カンチレバーの処理によって、ガス処理した試料と未処理の試料とで表面形状に違いのあることが分かった。この違いが、ガス処理による物理的なものか、官能基の分布によるものか、カンチレバーの種類も多様なことから表面処理の程度を高めて、より詳しく調べることが次年度の課題となる。
|
| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
引き続き、計画通りに進める。
|
| 今後の研究の推進方策 |
計画に基づき、引き続きXPSにより深さ方向の分布を詳しく調べ、ガス処理条件に反映させる。
|
| 次年度使用額が生じた理由 |
消耗品が予定より安く購入できたため、残額が生じた。
|
| 次年度使用額の使用計画 |
次年度の消耗品費等に充てる計画である。
|
