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2016 年度 実績報告書

ワイドバンドギャップ材料の欠陥定量解析手法の確立

研究課題

研究課題/領域番号 15K13351
研究機関九州大学

研究代表者

柿本 浩一  九州大学, 応用力学研究所, 教授 (90291509)

研究分担者 中野 智  九州大学, 応用力学研究所, 技術専門職員 (80423557)
研究期間 (年度) 2015-04-01 – 2017-03-31
キーワードSiC / GaN / Al203 / 転位 / 結晶成長
研究実績の概要

本提案では、過去40年以上にわたって解決できなかった高精度結晶欠陥制御、特にデバイス特性に影響を与える転位密度の低減と制御を、転位増殖の実験結果に基づいた3次元非定常転位分布数値解析法の開発と結晶成長炉内熱流束精密制御により、極低転位密度結晶成長が可能な新規結晶成長法の提案と実証を行った。すなわち、SiC、GaN、そしてAl2O3単結晶の転位密度を定量的に予測できるようになった。結晶欠陥の定量予測が可能となったことにより、従来解析が不可能であった結晶内の3次元転位分布の予測が可能になった。
結晶育成炉内における熱流束の高精度解析を行い、結晶成長プロセスと冷却プロセスを考慮した3次元非定常炉内温度分布の解析手法の研究開発を行った。現存の解析コードでは定常温度分布解析のみ可能であったが、超高精度炉内温度分布予測をもとに構築された本解析法を今まで九州大学で開発してきた大規模数値計算シミュレーション数値解析コードへ組み込むことにより、時々刻々と変化する結晶成長炉内の温度分布を含めた解析を可能とするコードの開発を完了した。これにより、結晶成長プロセスと冷却プロセスを計算することが可能となった。さらに、第一原理計算を用いた原子レベルの転位エネルギーをマクロな解析に適用することにより原子レベルとマクロレベルの解析を融合し、新規モデルのパラメータを用いて転位密度分布を予測することが可能な計算コードを構築した。

  • 研究成果

    (5件)

すべて 2017 2016

すべて 雑誌論文 (3件) (うち国際共著 1件、 査読あり 3件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (2件) (うち国際学会 2件)

  • [雑誌論文] First‐principles study of the surface phase diagrams of GaN (0001) and (000- 1) under oxide vapor phase epitaxy growth conditions2017

    • 著者名/発表者名
      T Kawamura, A Kitamoto, M Imade, M Yoshimura, Y Mori, Y Morikawa
    • 雑誌名

      physica status solidi (b)

      巻: - ページ: -

    • DOI

      DOI: 10.1002/pssb.201600706

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Total pressure-controlled PVT SiC growth for polytype stability during using 2D nucleation theory2016

    • 著者名/発表者名
      S. Araki, B. Gao, S. Nishizawa, S. Nakano, and K. Kakimoto
    • 雑誌名

      Cryst. Res. Technol.

      巻: 51, No. 5 ページ: 344-348

    • DOI

      DOI 10.1002/crat.201500344

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Study on Mechanical Properties of Single-Crystal Silicon Carbide by Nanoindentation2016

    • 著者名/発表者名
      Mitsuhiro Matsumoto, Hirofumi Harada, Koichi Kakimoto and Jiwang Yan
    • 雑誌名

      Advanced Materials Research

      巻: 1136 ページ: 549-554

    • DOI

      doi:10.4028/www.scientific.net/AMR.1136.549

    • 査読あり / 国際共著
  • [学会発表] Relationship between the Dislocation Density and Residual Stress in a GaN Crystal during the Cooling Process2016

    • 著者名/発表者名
      S. Nakano, B. Gao, K. Kakimoto
    • 学会等名
      The 7th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials
    • 発表場所
      Sheraton Kona Resort & Spa at Keauhou Bay, Hawaii, USA
    • 年月日
      2016-11-21 – 2016-11-25
    • 国際学会
  • [学会発表] Effect of oxygen atoms on dislocation multiplication in a silicon crystal2016

    • 著者名/発表者名
      W. Fukushima, B. Gao, S. Nakano, H. Harada, Y. Miyamura, and K. Kakimoto
    • 学会等名
      The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy
    • 発表場所
      Nagoya Congress Center
    • 年月日
      2016-08-07 – 2016-08-12
    • 国際学会

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公開日: 2018-01-16  

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