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RFマグネトロンスパッタリング法によりSiC薄膜およびTiO2薄膜を製作した。SiC成膜では、投入電力と注入するArガスの圧力を変えることにより、成膜速度、粒子の運動エネルギー、表面構造および光学特性への影響を明らかにした。また、運動エネルギーの制御によって低温でも結晶化（6H-SiC）することができた。TiO2薄膜に関しては、TiO2薄膜の流路を有したマイクロリアクター中でニトロ化合物の光還元反応を行うと、反応が効率よく進行した。また、金属助触媒をTiO2薄膜上に担持し、アルケン類の光還元反応およびアルコールの光付加反応を行い、Pt担持TiO2薄膜が有効に働くことを明らかにした。
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