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液晶鎖の自己集合性と高分子薄膜の表面偏析構造を用いた新たな高分子ブラシ構造の調製法を提案した。本手法では、ポリスチレン(PS)ブロック鎖と側鎖型液晶性高分子ブロック鎖を持つ液晶性ブロック共重合体(PS-b-PAz)とPSとの混合膜(PS-b-PAz/PS膜)を調製するだけで、ブラシ膜が調製できる。表面構造解析から、PS-b-PAz/PS膜中にてPAzブロック鎖は、表面に偏析し、ほぼ伸びきり主鎖となっており、高度な高密度ブラシ構造を形成する。本手法は、予め合成したブロック共重合体を高分子基材に少量添加するだけで簡便に調製できる特徴から、ポリマーブラシ構造の新たな形成手法として期待できる。
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