| 研究課題/領域番号 |
15K13978
|
|---|
| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 研究分野 |
電子デバイス・電子機器
|
|---|
| 研究機関 | 大阪府立大学 |
|---|
研究代表者 |
安田 雅昭 大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (30264807)
|
|---|
| 研究分担者 |
小寺 正敏 大阪工業大学, 工学部, 教授 (40170279)
|
|---|
| 連携研究者 |
平井 義彦 大阪府立大学, 工学研究科, 教授 (50285300)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
|
| キーワード | パターン形成 / 電子線リソグラフィ / 極端紫外線リソグラフィ / ナノインプリント / マルチスケールシミュレーション / スケール境界領域 |
|---|
| 研究成果の概要 |
ナノとマクロをつなぐスケール境界領域のパターン形成過程を支配する物理的および化学的要因を明らかにすることを目的に、多種のパターン形成技術を対象にマルチスケール解析を実施した。電子線や極端紫外線リソグラフィでは、レジスト分子のサイズよりパターンサイズが十分大きなときは、露光や現像条件がパターン形状の決定に対して支配的であるが、分子サイズと同程度あるいはそれより小さなサイズのパターンでは、レジスト分子の構造と挙動がパターン形状の決定に大きな影響を及ぼすことが示された。ナノインプリントについても、レジスト分子のサイズとパターンサイズの相関により形成されるパターン形状が決定されることが示された。
|
| 自由記述の分野 |
微細プロセス科学
|
