デュアルマイクロ波プラズマによるβ-C3N4の合成

2016 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 15K14186
• 研究種目: 挑戦的萌芽研究
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 材料加工・組織制御工学
• 研究機関: 関東学院大学
• 研究代表者: 高井 治 関東学院大学, 工学部, 教授 (40110712)
• 研究期間 (年度): 2015-04-01 – 2017-03-31
• キーワード: 硬質窒化炭素膜 / マイクロ波CVD装置 / 薄膜 / プラズマ

研究成果の概要

β-C3N4は体積弾性率が理論計算から427 GPaと非常に大きな値になり、ダイヤモンドの体積弾性率の実測値442 GPaに匹敵すると理論的に予測されているが、実験では実現できていない。本研究では、β-C3N4の合成を目的として、デュアルマイクロ波プラズマ化学気相蒸着(CVD)法による合成を試みた。デュアルマイクロ波プラズマCVD装置を開発し、炭素および窒素のラジカル源を独立制御することで、任意の組成の窒化炭素膜を成膜する手法を開発した。

自由記述の分野

薄膜工学