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本研究では、様々な積層構造をもつ2層グラフェンの絶縁基板上での作製、GOから作製したグラフェンの結晶性の向上、新規還元手法の開発に取り組んだ。GOの高次還元法を複数回用いることでSiO2上での2層グラフェンの大量生成に成功した。Raman分光の評価から、この2層グラフェンは多様な積層構造をもつことも明らかにした。これはGOとグラフェンの弱い相互作用によるものだと考えている。さらに、メタンと水素ガスの流量比を調整することやタングステンフィラメントの利用によって、グラフェンの高結晶化と作製温度の低温化、修復過程の解明に成功した。
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