2017 年度研究成果報告書

水素吸蔵によるシリコンの転位移動度向上と低侵襲性延性マイクロニードルの開発

研究課題

研究課題/領域番号	15K17937
研究種目	若手研究(B)
配分区分	基金
研究分野	機械材料・材料力学
研究機関	名古屋工業大学
研究代表者	泉隼人名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (90578337)
研究期間 (年度)	2015-04-01 – 2018-03-31
キーワード	シリコン / 水素 / 転位 / 塑性変形
研究成果の概要	水素と欠陥の積極的制御によりシリコン表面の塑性特性の向上を試みた．反応性イオンエッチングにより導入した欠陥に水素を捕捉させ、押し込み試験により塑性特性を評価した．同じ荷重下において欠陥と水素のどちらか一方では押込み深さへの影響はなく，両者が存在する場合のみ，押込み深さが増加する傾向が認められた．また押込み深さを浅くすると欠陥と水素の影響が相対的に大きくなることから，表面近傍のみが塑性変形しやすく，無欠陥のシリコン結晶とは明らかに異なった機械的性質であることが示唆された．
自由記述の分野	機械工学