グラフェンヒートスプレッダーの開発を目的としたグラフェン－基板界面効果の解明

2016 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 15K17987
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 熱工学
• 研究機関: 九州大学
• 研究代表者: Wang Haidong 九州大学, 工学研究院, 助教 (30729405)
• 研究期間 (年度): 2015-04-01 – 2017-03-31
• キーワード: suspended graphene / thermal conductivity / substrate effect / heat spreader / width dependence

研究成果の概要

グラフェンは極めて高い熱伝導率を有し，電子デバイスのヒートスプレッダーとしての利用が期待されている．しかし，グラフェンの熱輸送性質は界面効果の影響を大きく受け，性能が大きく低下する可能性がある，その界面効果の定量的に明らかにすることが必要．本研究は，T型とH型MEMSデバイスを利用して，単層懸架グラフェンリボンの熱伝導率を計測しました．基板を支えるグラフェンより，懸架グラフェンの熱伝導率は非常に高い，2000W/mK以上です．グラフェン界面フォノン散乱の重要な影響を解明しました．

自由記述の分野

工学