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トンネル磁気抵抗デバイスの一種である Graphene Passivated Ferromagnetic Electrodes（GPFE）デバイスは、Niとグラフェンの膜「G/Ni」で構成されている。Gは酸素に不活性であるが、Niは酸化しやすい。さらに、G/Niがハーフメタル材料かどうかまだ確認されていない。本研究では、第一原理計算法を用いてG / Niの酸化特性、ハーフメタル特性とそのメカニズムを調査した。Gが存在するとNiの酸化を防ぐことになった。G/Ni配座構造によってG/Niのハーフメタルの特性を得た。この成果を物理学会に報告し、ハイライト論文として学術雑誌に掲載された。
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