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1. 解像度1umでデバイスを印刷する技術を実現。本研究では、平行真空紫外光による表面改質を用いた独自の印刷技術を開発した。この印刷に よって、均質な特性を有するデバイスや、複雑な形状を持つ電子回路を、大面積、フレキシブル、透明な基材の上に形成することが初めて可能に なった。
2. 完全印刷プロセスによって有機トランジスタを大面積に形成。本研究において、基板を傾けることで発生する重力の影響を用いて、マイクロ液滴アレイの乾燥工程を一様に制御し、高品質な半導体膜を大面積でパターニングすることに成功した。この手法を用いて、完全印刷トランジスタ を大面積に形成し、素子間の分離を完全に行うことに成功した。
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