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2016 年度 実施状況報告書

ワイドバンドギャップSiC半導体による放射線耐性に優れたCMOS集積回路の研究(国際共同研究強化)

研究課題

研究課題/領域番号 15KK0240
研究機関広島大学

研究代表者

黒木 伸一郎  広島大学, ナノデバイス・バイオ融合科学研究所, 准教授 (70400281)

研究期間 (年度) 2016 – 2017
キーワード極限環境エレクトロニクス / シリコンカーバイド / CMOS集積回路 / MOSFET / 耐放射線 / 耐高温動作 / 廃炉技術
研究実績の概要

現在福島第一原発の廃炉活動が進められているが、その廃炉工程には高放射線環境での作業が必要であり、ロボット等の投入による速やかな廃炉活動が求められている。しかし通常ロボットの頭脳であるSi半導体集積回路は、放射線耐性が低く、高い放射線環境下では破損する。本研究「ワイドバンドギャップSiC半導体による放射線耐性に優れたCMOS集積回路の研究」では、4H-SiC半導体による放射線耐性に優れたCMOS集積回路の研究を行い、廃炉工程に関わるロボット群の頭脳を構築することを目標としている。本研究は、国際共同研究としてスウェーデン王立工科大学(KTH Royal Institute of Technology)のProf. Carl-Mikael Zetterlingらと進めている。本研究では4H-SiC nMOSFETsを試作し、既に1MGyを超えるガンマ線照射時の動作特性への影響や450℃までの超高温動作特性等を示している。平成28年度はこれを更に発展させ4H-SiC半導体によるMOSFETsデバイスの高性能化、および小規模集積回路の研究および試作を進めた。特に4H-SiC 集積回路の構築、特にn型トランジスタのみで論理インバータ動作可能なPseudo-CMOS回路の極限環境動作を示し、4H-SiC MOSFETsの電流駆動力向上のためにキャリア移動度向上および短チャネル化を行った。従来のプレーナ型4H-SiC MOSFETsではSiC特有の高温プロセスからの制限より、従来のゲート電極等を用いたセルフアライン構造を適用できない。このため回路の高周波動作が難しい状況であった。本研究では新しいデバイス構造を提案し、MOSFETsへの寄生容量を極限まで低減を行い、高周波動作への道筋を示した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

1: 当初の計画以上に進展している

理由

平成28年度はこれまでの研究を更に発展させ4H-SiC半導体によるMOSFETsデバイスの高性能化、および小規模集積回路の研究および試作を進めた。特に4H-SiC Pseudo-CMOS回路の450℃までの極限環境動作を示し、またバリウムなどの異種元素をMOS(酸化膜-SiC)界面に導入することでキャリア移動度向上を行い、また従来のプレーナ型MOSFETs構造からゲート埋込構造を導入することでトランジスタの短チャネル化を行い、高い電流行動能力を示した。平成29年度はこの異種元素導入および新構造を用いた4H-SiC集積回路構築を進めるとともに、ガンマ線照射効果など実験を進め、シリコンカーバイドMOSFETsによる極限環境エレクトロニクスを構築する。

今後の研究の推進方策

引き続き研究をスウェーデン王立工科大学との国際共同研究として進める。スウェーデン王立工科大学ではシリコンカーバイド・バイポーラトランジスタ等によるデバイスおよび回路研究が進められており、本研究代表者も一部参画している。連携して研究を進めることで、実用化に向けた技術確立を早急に行い、より人・社会の役に立つ、人が立ち入れない環境、すなわち高放射線、高温どの極限環境で駆動する集積回路・センサーシステムを構築する。スウェーデンと日本という、平和を希求する国間の国際共同研究であり、より未来を見据えた研究を進め、またストックホルム・広島という地から、この研究を発信する。シリコンカーバイドによる極限環境用集積回路の構築と共に、同じく極限環境でも動作可能なセンサー群の構築が求められる。これらセンサー群に関しては、発展的に別プロジェクトとして研究を進めている。

  • 研究成果

    (17件)

すべて 2017 2016

すべて 雑誌論文 (6件) (うち国際共著 2件、 査読あり 6件、 謝辞記載あり 3件、 オープンアクセス 2件) 学会発表 (10件) (うち国際学会 4件、 招待講演 2件) 学会・シンポジウム開催 (1件)

  • [雑誌論文] 4H-SiC Pseudo-CMOS Logic Inverters for Harsh Environment Electronics2017

    • 著者名/発表者名
      S-I. Kuroki, T. Kurose, H. Nagatsuma, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Kikkawa, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 897 ページ: 669-672

    • DOI

      https://www.sci enti fi c.net/MSF.897.669

    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Low Resistance Ti-Si-C Ohmic Contacts for 4H-SiC Power Devices Using Laser Annealing2017

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 897 ページ: 399-402

    • DOI

      https://www.sci enti fi c.net/MSF.897.399

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Enhanced-Oxidation and Interface Modification on 4H-SiC(0001) Substrate Using Alkaline Earth Metal2017

    • 著者名/発表者名
      Kosuke Muraoka, Hiroshi Sezaki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Tadashi Sato, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Mat. Sci. Forum

      巻: 897 ページ: 348-351

    • DOI

      https://www.sci enti fi c.net/MSF.897.348

    • 査読あり
  • [雑誌論文] High Gamma Ray Tolerance for 4H-SiC Bipolar Circuits2017

    • 著者名/発表者名
      S. S. Suvanam, S-I. Kuroki, L. Lanni, R. Hadayati, T. Ohshima, T. Makino, A. Hallen, C.-M. Zetterling
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Nuclear Science

      巻: 64 ページ: 852-858

    • DOI

      10.1109/TNS.2016.2642899

    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Formation of amorphous alloys on 4H-SiC with NbNi film using pulsed-laser annealing2016

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva,Seiji Ishikawa, Takamichi Miyazaki, Takamaro Kikkawa,and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 109 ページ: 012101-1-5

    • DOI

      10.1063/1.4955406

    • 査読あり / オープンアクセス / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Characterization of Grapho-Silicidation on n+ 4H-SiC C-Face for Back Side Ohmic Contacts of Power Devices2016

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva,Tomonori Maeda, Seiji Ishikawa,Hiroshi Sezaki, Takamichi Miyazaki, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 雑誌名

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      巻: 5 ページ: 457-460

    • DOI

      10.1149/2.0091609

    • 査読あり / オープンアクセス / 謝辞記載あり
  • [学会発表] Research on 4H-SiC pMOSFETs with NbNi silicide2017

    • 著者名/発表者名
      Jun Kajihara, Shin-Ichiro Kuroki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki,Takamaro Kikkawa, Takahiro Makino, Takeshi Oshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 学会等名
      The 64th JSAP Spring Meeting
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] Effects of surface etching with CF4 on 4H-SiC MOS Capacitors2017

    • 著者名/発表者名
      Kiichi Kobayakawa, Kousuke Muraoka, Hiroshi Sezaki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda,Takamaro Kikkawa, Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The 64th JSAP Spring Meeting
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] Improvements of 4H-SiC MOS interface with barium2017

    • 著者名/発表者名
      Kousuke Muraoka, Hiroshi Sezaki, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Takamaro Kikkawa, Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The 64th JSAP Spring Meeting
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] Ti-Si-C Ohmic contact formation by laser annealing on n+ 4H-SiC C face2017

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The 64th JSAP Spring Meeting
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] 4H-SiC MOSFETs and Logic Inverters for Harsh Environment Electronics2017

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      IEEE Sweden(IEEE米国電気電子学会スウェーデン支部)
    • 発表場所
      Kista, Sweden
    • 年月日
      2017-01-30 – 2017-01-30
    • 招待講演
  • [学会発表] 4H-SiC Pseudo-CMOS Logic Inverters for Harsh Environment Electronics2016

    • 著者名/発表者名
      S.-I. Kuroki, H. Nagatsuma, T. Kurose, S. Ishikawa, T. Maeda, H. Sezaki, T. Kikkawa, T. Makino, T. Ohshima, M. Ostling, and C.-M. Zetterling
    • 学会等名
      11th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2016)
    • 発表場所
      Halkidiki, Greece
    • 年月日
      2016-09-26 – 2016-09-29
    • 国際学会
  • [学会発表] Enhanced-oxidation and interface modification on 4H-SiC(0001) substrate using alkaline earth metal2016

    • 著者名/発表者名
      K. Muraoka, H. Sezaki, S. Ishikawa, T. Maeda, T. Sato, T. Kikkawa and S-I. Kuroki
    • 学会等名
      11th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2016)
    • 発表場所
      Halkidiki, Greece
    • 年月日
      2016-09-26 – 2016-09-29
    • 国際学会
  • [学会発表] Low resistance Ti-Si-C ohmic contacts for 4H-SiC power devices using Laser annealing2016

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      11th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2016)
    • 発表場所
      Halkidiki, Greece
    • 年月日
      2016-09-26 – 2016-09-29
    • 国際学会
  • [学会発表] Low resistance Ni/Ti multilayer ohmic contact formation by Laser annealing on 4H-SiC C face2016

    • 著者名/発表者名
      Milantha De Silva, Teruhisa Kawasaki, Takamaro Kikkawa, and Shin-Ichiro Kuroki
    • 学会等名
      The77th JSAP Autumn Meeting
    • 発表場所
      新潟市朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [学会発表] 4H-SiC MOSFETs and Logic Inverters for Radiation-Hardened Electronics2016

    • 著者名/発表者名
      Shin-Ichiro Kuroki, Hirofumi Nagatsuma, Tatsuya Kurose, Milantha De Silva, Seiji Ishikawa, Tomonori Maeda, Hiroshi Sezaki, Takamaro Kikkawa, Takahiro Makino, Takashi Ohshima, Mikael Ostling, and Carl-Mikael Zetterling
    • 学会等名
      International Workshop on Radiation Resistant Sensors and Related Technologies for Nuclear Power Plant Decommissioning (R2SRT2016)(廃炉に向けた耐放射線性センサー及び関連研究に関する国際ワークショップ)
    • 発表場所
      福島県いわき市
    • 年月日
      2016-04-19 – 2016-04-20
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会・シンポジウム開催] International Workshop on Nanodevice Technologies 2017 (IWNT2017)2017

    • 発表場所
      広島大学 東広島キャンパス サタケホール
    • 年月日
      2017-03-02 – 2017-03-02

URL: 

公開日: 2018-01-16  

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