| 研究課題/領域番号 |
16205016
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| 研究機関 | 北陸先端科学技術大学院大学 |
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研究代表者 |
川上 雄資 北陸先端科学技術大学院大学, マテリアルサイエンス研究科, 教授 (80109280)
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| 研究分担者 |
趙 英姫 北陸先端科学技術大学院大学, マテリアルサイエンス研究科, 助手 (50359717)
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| キーワード | シロキサン / シルセスキオキサン / 特異構造 / X線構造解析 / 半導体封止材料 / 耐熱材料 / 低誘電率材料 / ホログラフィ材料 |
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| 研究概要 |
ケイ素化合物の分子設計により、優れた耐熱性、特異な電子・光的特性を有する、半導体周辺実装材料やホログラフィ材料などの設計指針を確立することを目的とした。
1.超LSI作製用耐熱性層間絶縁膜・モールド樹脂材料
本研究で開発した触媒カップリング反応を用いて、低誘電率、高強度ポリアリーレンシロキサンを合成し、LSI用封止材料に展開するために、側鎖にエポキシ基などを導入した、基盤との密着性に優れ、膨張係数のマッチングもよく、反りが無い耐電圧破壊特性の高い材料を開発した。さらに、ダブルデッカー型シルセスキオキサンの選択的合成法を開発し、官能化を行い、その耐熱性、低熱膨張率、低誘電率を生かした回路用絶縁材料の設計について検討した。
2.ホログラフィー材料
オルソスピロエステルなどの非収縮性の光開環イオン重合性モノマーを用いて、液晶分子を効率的、かつシャープに相分離し、解像度、コントラストの高い画像を形成させる指針を確立できた。また、ゾル-ゲル反応との組み合わせ、光重合時に極性を変化する材料の開発などを行い、さらに高性能グレーティングを形成できる材料の開発を中心に研究を進めた。
3.液晶材料
立体的に特異な構造を持つシルセスキオキサンを用い、色素間の会合を抑えてシャープなモノメリック発光を行う材料を開発した。また、種々の核構造を持つ新奇液晶材料の開発の設計指針を確立した。
4.高性能材料構成単位としてのシルセスキオキサン合成法の開発
特異な構造を持つシルセスキオキサンの選択適合性条件を確立した。また、シルセスキオキサンを導入したポリシロキサンを開発し、講耐熱性、硬度、何延性に優れたコーティング材料の開発に見通しをつけた。
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