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2005 年度 実績報告書

液体クラスターイオンビームによる表面高機能化に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 16360152
研究機関京都大学

研究代表者

高岡 義寛  京都大学, 工学研究科, 教授 (90135525)

研究分担者 石川 順三  京都大学, 工学研究科, 教授 (80026278)
川下 将一  京都大学, 工学研究科, 講師 (70314234)
キーワード液体クラスターイオン / イオンビーム / スパッタ / 表面改質 / 親・疎水性 / 質量分離 / TOF
研究概要

数百から数万個の原子(あるいは分子)から構成されるグラスターは、ナノサイズの微粒子であり、表面を占める原子数が極めて大きいため、特異な性質を持っている。その物理的・化学的性質はバルク状態とは異なり、新規材料や先進材料として材料科学的に興味が持たれている。本研究では、水やアルコールなどの液体クラスターイオンビームを固体表面に照射し、表面加工や表面改質を行って、固体表面の高機能化をナノレベルで行うことを目的としている。
平成17年度は、比較的小さなクラスターサイズの水やエタノールクラスターを生成するために、室温で蒸発する水やエタノール分子に数気圧のヘリウムガスを混合してノズルから噴射させ、TOF法によってサイズ分析を行った。水クラスターではピークサイズが250、エタノールでは1250のクラスターが生成し、特にエタノールクラスターではサイズが100以下の小さなクラスターが生成できることが分かった。さらに、これらの小さなクラスターイオンを、従来の質量分離器を用いてサイズ分離し、特定のサイズや構造を持ったクラスターイオンを取り出す足掛かりを得ることが出来た。
また、サイズ分析の結果と併せて、生成した水やエタノールなどの液体クラスターをイオン化・加速して、半導体や金属などの表面に照射し、表面照射効果を明らかにした。特に、Si基板に水クラスターイオンを照射すると、Si表面は超親水性になり、エタノールクラスターイオン照射では撥水性になることが分かった。さらに、Ti基板では、クラスターイオン照射による親・疎水性の表面改質がSi基板の場合と逆になることが分かった。なお、SiやTi基板表面は、従来のモノマーイオンビーム照射と比較して、数十倍から数百倍スパッタされやすく、また表面粗さは1nm以下であった。このように、液体クラスターイオンビーム技術を用いて、固体表面の高機能化に成功した。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2006 2005

すべて 雑誌論文 (6件)

  • [雑誌論文] Apatite Deposition on Polymer Substrates Irradiated by Oxygen Cluster Ion Beams2006

    • 著者名/発表者名
      M.Kawashita, G.H.Takaoka et al.
    • 雑誌名

      Journal of the Ceramic Society of Japan 114

      ページ: 77-81

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Production of Liquid Cluster Ions and Their Application to Surface Etching2006

    • 著者名/発表者名
      G.H.Takaoka et al.
    • 雑誌名

      Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 242

      ページ: 100-103

  • [雑誌論文] Interactions of Ethanol Cluster Ion Beams With Silicon Surfaces2006

    • 著者名/発表者名
      G.H.Takaoka, M.Kawashita et al.
    • 雑誌名

      Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 242

      ページ: 417-420

  • [雑誌論文] Fundamental Characteristics of Liquid Cluster Ion Source for Surface Modification2005

    • 著者名/発表者名
      G.H.Takaoka, M.Kawashita et al.
    • 雑誌名

      Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 237

      ページ: 402-405

  • [雑誌論文] interactions of Argon Cluster Ion Beams with Silicon Surfaces2005

    • 著者名/発表者名
      G.H.Takaoka, M.Kawashita et al.
    • 雑誌名

      Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 232

      ページ: 206-211

  • [雑誌論文] Formation of Almost Delta-Layered Nanoparticles in SiO_2 Thin Film on Si Substrate by Metal Negative-Ion Implantation2005

    • 著者名/発表者名
      J.Ishikawa et al.
    • 雑誌名

      Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 237

      ページ: 422-427

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公開日: 2007-04-02   更新日: 2016-04-21  

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