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2006 年度 実績報告書

高分子集合体間の相互作用力制御に基づいた35nmサイズの微細レジストパターン開発

研究課題

研究課題/領域番号 16360171
研究機関長岡技術科学大学

研究代表者

河合 晃  長岡技術科学大学, 工学部, 教授 (00251851)

キーワードリソグラフィ / 原子間力顕微鏡 / レジスト / 付着性 / 高分子集合体 / 環境制御型電子顕微鏡 / ラプラス力 / ラインエッジラフネス
研究概要

現像時のウェット処理の際のラプラス力の知見に基づき、レジストパターン形成に注目した。最初にラプラス力の低減実験に取り組む。まず、2個のパターンの中央にAFM探針を接触させて分離させる。この際の荷重を分離力として測定する。そして、パターンの分離実験の終了後に、各高分子集合体の付着力測定に取り組む。2個の高分子集合体間の相互作用力と、測定系のサイズ・距離との相関をDerajaguin近似に基づいて解析する。これにより、様々な集合体間の相互作用力を推定することが可能となる。これらの実験から、高分子集合体は、凝集力を有した個別の粒子として取り扱えることを示した。以上の技術を用いて、現像液中で、高分子集合体の凝集挙動を直接解析した。具体的には、レジストパターンを倒壊させて、その断面を詳細に観察した。また、残さ、および表面から高分子集合体をマニピュレーションする。このとき、レジストパターン内の様々な箇所から、高分子集合体を選択して取り出すことができる。マニピュレーションできる高分子集合体のサイズは、10〜30nmの微細サイズから100nmクラスのものまで可能である。パターンから分離された高分子集合体は、表面エネルギーのバランスにより、基板上かAFM探針のどちらかに付着している。分離した高分子集合体をナノスケールで移動できることにより、パターン内の任意の位置に再付着させて、パターン凝集性を改良する。本研究期間には、原著論文2報、国際学会発表1件、国内学会発表4件の成果発表を行った。

  • 研究成果

    (2件)

すべて 2006

すべて 雑誌論文 (2件)

  • [雑誌論文] Formation factors of watermark for immersion lithography2006

    • 著者名/発表者名
      Takayoshi Niiyama, Akira Kawai
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 5383-5387

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [雑誌論文] Effect of low surface tension liquid on pattern collapse analyzed by dynamic meniscus observation2006

    • 著者名/発表者名
      Akira Kawai, Kenta Suzuki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 5429-5434

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より

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公開日: 2008-05-08   更新日: 2016-04-21  

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