| 研究課題/領域番号 |
16360182
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 研究機関 | 日本大学 |
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研究代表者 |
伊藤 彰義 日本大学, 理工学部, 教授 (60059962)
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| 研究分担者 |
中川 活二 日本大学, 理工学部, 教授 (20221442)
大月 穣 日本大学, 理工学部, 助教授 (80233188)
塚本 新 日本大学, 理工学部, 助手 (30318365)
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| キーワード | 微小磁区安定化 / 自己配列極微小孔SiOx薄膜 / FePt微粒子 / 複合膜 / 非線形磁気光学効果 / 光・磁気ハイブリッド記録 / 急速昇温結晶化法 / フェムト秒パルスレーザー |
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| 研究概要 |
光磁気記録では非晶質で連続な垂直磁化膜が利用され、記録雑音および安定性は磁気記録に比べ有利である。しかし極微小記録では磁壁収縮力が顕著となり不安定になる。この解決のため特に磁壁ピンニングサイトの増加が重要である。このため自己配列極微小空孔SiOxによる凹凸基板上への積層、あるいは高い磁気異方性をを持つ微細結晶の下地へ積層した交換結合複合膜を作製する。磁気記録においても複合膜があるが、ここでは光磁気記録媒体を基本としアプローチした。本年度の研究成果は以下の通りである。
(1)自己配列極微小空孔SiOx薄膜の作製とその下地利用のための加工
トリブロック・コポリマーを利用し5nmおよび8nm径の多孔質シリコン下地用薄膜の作成および、その表面のドライエッチングに成功した。
(2)非晶質下地上へのFePt、L1_0、垂直磁化、微小結晶粒膜作製
急速昇温結晶化法によるFePt薄膜の規則合金化、微粒子化を行い高Ku垂直磁化膜を得た。
(3)FePt微小結晶粒膜上への複合膜作製
上記(2)で得た極微細FePt粒上へTbFeCo層を積層し、磁化過程およびその温度特性の評価より、複合膜が交換結合し、Hw増大へ寄与していることを明らかにした。
(4)非線形磁気光学効果測定装置の構築と界面表面磁化過程
フェムト秒パルスレーザーを用いた界面、表面に敏感な非線形磁気光学効果と通常の磁気光学効果の同時測定システムを構築し、TbFeCo薄膜の磁気ヒステリシスループ測定に成功。界面・バルク磁化過程によると思われる明らかなループ形状の違いを生じることを明らかにした。
(5)複合膜の光磁気、光アシステッド磁気記録評価
現有の光磁気記録再生システムへ磁気記録用記録ヘッドを組み合わせた光・磁気ハイブリッド記録再生装置を構築、TbFeCo薄膜への記録再生基礎特性の計測に成功した。
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