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2007 年度 実績報告書

シリコンカーバイドのエピ膜上に形成される表面欠陥の起源の解明とその除去方法の開発

研究課題

研究課題/領域番号 16560009
研究機関徳島大学

研究代表者

岡田 達也  徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 准教授 (20281165)

キーワードシリコンカーバイド(SiC) / フェムト秒レーザ / リップ構造
研究概要

平成19年度は、フェムト秒レーザ照射したシリコンカーバイド(SiC)単結晶表面に形成される「リップル」と呼ばれる微細周期構造に伴う内部改質を、顕微ラマン分光(MRS)測定および断面透過電子顕微鏡(TEM)観察を主な実験手法として探索した、特に、レーザエネルギーによるリップルの形態・周期変化と内部構造の関係および、リップル最表面のアモルファス層の化学成分に注目した。
レーザエネルギーの増大(6、8、10μJ/パルス)に伴って、照射部のクレーターは深く大きくなるが、照射部全体が、中心部に粗いリップル(周期〜500nm)、周辺部に細かいリップル(周期〜250nm)から構成される同心2重円状の形態であることは変わちなかった。
粗いリップルと細かいリップルの遷移は非常に狭い領域で起こっているが、最表面はほぼ同じ厚さ(〜50nm)のアモルファス層に覆われていた。これは、リップルの表面変形メカニズムは、粗いリップルと細かいリップルで共通しており、周期(500nm or 250nm)を決めるメカニズムのみが異なっていることを示している。この結果は、現段階で未解明であるリップルの形成機構に関して新しい知見を与える。
また、MRS測定の結果、最表面アモルファス層の化学成分が、粗いリップルと細かいリップルで異なっていることも分かった。粗いリップルではアモルファスSi、アモルファスCに対応するMRSピークが強いのに対して、細かいリップルではアモルファスSiCのピーク強度が高い。これはレーザ照射に伴って、原子移動が起こっていることを示している。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2008 2007

すべて 学会発表 (4件)

  • [学会発表] フェムト秒レーザ照射により誘起された4H-SiC表面周期構造の断面TEM観察2008

    • 著者名/発表者名
      岡田 達也, ほか
    • 学会等名
      日本金属学会第142回大会
    • 発表場所
      東京都
    • 年月日
      2008-03-28
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] レーザー誘起ナノ周期構造の断面形状と物性解析2008

    • 著者名/発表者名
      富田 卓朗, ほか
    • 学会等名
      日本物理学会年次大会
    • 発表場所
      大阪市
    • 年月日
      2008-03-26
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Cross-Sectional TEM Analysis of Structural Change in 4H-SiC Single Crystal Irradiated by Femtosecond Laser Pulses2007

    • 著者名/発表者名
      H. Kawahara, et. al.
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials(ICSCRM2007)
    • 発表場所
      大津市
    • 年月日
      2007-10-17
  • [学会発表] TEM Observation of Structural Changes under 4H-SiC Single Crystal Surface Irradiated by Femtosecond Laser Pulses2007

    • 著者名/発表者名
      T. Okada, et. al.
    • 学会等名
      The 8th International Symposium on Laser Precision Microfabrication(LPM2007)
    • 発表場所
      Vienna
    • 年月日
      2007-04-26

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公開日: 2010-02-04   更新日: 2016-04-21  

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