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2005 年度 実績報告書

シンクロトロン光励起プロセスによる電子材料のナノ構造加工に関する基盤技術の開発

研究課題

研究課題/領域番号 16560012
研究機関佐賀大学

研究代表者

西尾 光弘  佐賀大学, 理工学部, 教授 (60109220)

研究分担者 小川 博司  佐賀大学, シンクロトロン応用研究センター, 教授 (10039290)
田中 徹  佐賀大学, シンクロトロン応用研究センター, 助手 (20325591)
キーワードシンクロトロン光励起 / 電子材料 / ナノ構造加工 / 基盤技術
研究概要

佐賀県立九州シンクロトロン光研究センターに建設予定の波長選択、反応ガス導入、加工状態その場測定、清浄な雰囲気(簡易クリーンルーム)などが実現できる材料加工専用のビームライン(材料加工・プロセス開発ビームライン)の整備を進めてきた。また、佐賀県有シンクロトロン光研究センターの光源試運転に伴い、このビームラインの立ち上げおよびその性能試験の一部については年度末であったが遂行された。この間、分子科学研究所UVSOR施設の白色ラインの使用の他、佐賀大学にて、佐賀県立九州シンクロトロン光研究センターでの本格的な実験のための準備を進めた。前者については、テフロン、ZnTeのシンクロトロン光照射によるエッチング実験を行った。その結果、シンクロトロン光によるエッチングが微細構造の作製に有効であることなどを実証した。また、ZnTeに関しては、波長依存性のデータに基づき、エッチングメカニズムを明らかにした。更に、この実験過程において、種々のガスを使用した所、予想外の現象(表面改質や薄膜形成など)も認められ、シンクロトロン光照射を用いた材料加工において大きな指針が得られた。また、後者については、シンクロトロン光実験のための佐賀大学で実施した予備実験ではあるが、ZnTeやZnMgTeなどの化合物、混晶半導体の成長、ドーピング、エッチングなどについて新しい材料加工技術を開発した。更に、微細な特殊パターンの形成技術の開発を行い、その有効性を実証するため、研究室で開発中の光デバイスに適用した。

  • 研究成果

    (5件)

すべて 2006 2005

すべて 雑誌論文 (5件)

  • [雑誌論文] Effect of surface treatment on properties of ZnTe LED fabricated by Al thermal diffusion2006

    • 著者名/発表者名
      Tooru Tanaka, Kazuki Hayashida, Katsuhiko Saito, Mitsuhiro Nishio, Qixin Guo, Hiroshi Ogawa
    • 雑誌名

      physica status solidi(b) Vol.243

      ページ: 959-962

  • [雑誌論文] Effects of substrate temperature upon photoluminescence and electrical properties of ZnTe in atmospheric pressure MOVPE using tris-dimethlaminophosphorus2006

    • 著者名/発表者名
      Kazuki Hayashida, Tooru Tanaka, Mitsuhiro Nishio, Qixin Guo, T.Tanigawa, Hiroshi Ogawa
    • 雑誌名

      physica status solidi(c) Vol.3

      ページ: 1172-1175

  • [雑誌論文] Growth of Boron-Doped ZnTe Homoepitaxial Layer by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy2006

    • 著者名/発表者名
      Katsuhiko Saito, Tetsuo Yamashita, Tooru Tanaka, Mitsuhiro Nishio, Qixin Guo, Hiroshi Ogawa
    • 雑誌名

      physica status solidi(c) Vol.3

      ページ: 833-836

  • [雑誌論文] Synchrotron radiation-excited etching of ZnTe using Ar gas2005

    • 著者名/発表者名
      Tooru Tanaka, Yusuke Kume, Kazuki Hayashida, Katsuhiko Saito, Mitsuhiro Nishio, Qixin Guo, Hiroshi Ogawa
    • 雑誌名

      Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B238

      ページ: 115-118

  • [雑誌論文] Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing2005

    • 著者名/発表者名
      Qixin GUO, Yusukei KUME, Tooru TANAKA, Mitsuhiro NISHIO, Hiroshi OGAWA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44

      ページ: L863-L865

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公開日: 2007-04-02   更新日: 2016-04-21  

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