• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2005 年度 実績報告書

環境半導体β-FeSi2/Siヘテロ接合の高品質化と光デバイスの開発

研究課題

研究課題/領域番号 16560017
研究機関金沢工業大学

研究代表者

石井 恂  金沢工業大学, 工学部, 教授 (30222946)

研究分担者 宮田 俊弘  金沢工業大学, 工学部, 助教授 (30257448)
キーワードiron disilicide / vacuum deposition / thin film / silicon / epitaxy / oriented growth / high purity
研究概要

超高真空蒸着装置を用いて、シリコン(001)基板上にβ-FeSi_2を生成し、引き続きp型シリコンを作製し二重ヘテロ構造で発光デバイス構造を作ることを試みた。まず、昨年度にシリコン(001)基板にβ-FeSi_2をエピタキシャル生成する条件を確認し、再現性のあるものとした。その上で、蒸着するFeソースの純度を上げてシリコン(001)基板上に生成したβ-FeSi_2のキャリヤ濃度を1.3x10^<16>cm^<-3>と低減することに初めて成功した。さらに、Feソースとβ-FSi_2生成層の不純物元素を二次イオン質量分析計で測定し、コバルトやニッケルなどが、主要な不純物であり、それらが電子密度を支配していることを明らかにした。残留不純物元素が同定されたことは、Feソースの純度向上の重要な指標となる。また、キャリヤ濃度が低減されたことで、デバイスの作製に不可欠であるドーピングのデータを収集できるようになった。
p-Si/β-FeSi_2/n-Si基板の二重ヘテロ構造を全て蒸着法で作った。p-Siとn-Si基板上に金属をそれぞれ蒸着して電極を形成して、1mm四方のチップを作製した。電流-電圧特性を測定した結果、高品質なβ-FeSi_2生成層からなるチップでは、理想因子が1.27と低いダイオードができることが明らかとなった。このことからas-grownβ-FeSi_2生成層を用いて発光デバイスが開発できる見通しが得られた。

  • 研究成果

    (2件)

すべて 2006 その他

すべて 雑誌論文 (2件)

  • [雑誌論文] 蒸着法によるβ-FeSi_2生成層への残留不純物の影響2006

    • 著者名/発表者名
      石井 恂
    • 雑誌名

      第9回シリサイド系半導体研究会 9

  • [雑誌論文] High purity β-FeSi2 formed on silicon(001) substrates by an vacuum Deposition method

    • 著者名/発表者名
      Makoto Ishii
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. (発売予定)

URL: 

公開日: 2007-04-02   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi