研究課題
基盤研究(C)
平成16年度では本学マイクロデバイスセンターにおいて、各種MEMS装置を用いてマイクロ流路を実際に試作した。各種MEMS製造装置の実験条件を把握し、シリコンウェとガラス基板とのサンドイッチ構造をした一辺が100マイクロメートルのほぼ正方形断面の流路を作成した。昨年度の平成17年度実施の「マイクロPTのソフトウェア開発」では、1)マイクロPT用感度マップの計算、および、2)マイクロPT用の高精度な逆問題解析手法のコード開発を行なった。1)では、ラプラス方程式を境界条件で解き、ガウス式よりキャパシタンスの順問題について解法プログラムを汎用ソフトウェアのマセマティカで、作成した。2)では、一般ベクトル化サンプルパターンマッチング法という、まったく新しい逆問題の解法を考案し、そのプログラミングを行い、実際の計測におけるチューニングを行った。平成18年度はそれらを踏まえて、本学船橋校舎のマイクロデバイスセンターにて、(1)マイクロ流路を実際に作製し、そのためのマスクアライナーとICPエッチング装置のレシピ(条件)を検討した。また、(2)マイクロ流路への電極配置の実製作し、マイクロ流路製造のノウハウをマスターし、スパッタリングを用いて、MEMS技術により、マイクロ電極を作製した。さらに、(3)流れのインピーダンス計測を行い、昨年度の実績のある画像再構成コードを、ナノ粒子流体に適用し、電極つきのマイクロ流路において、ナノ粒子とインピーダンスとの関係を測定した。そして、そのマイクロ流路内のナノ粒子濃度分布の可視化計測に成功した。
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