| 研究概要 |
平成16年度は対象材料をPbTeとし、その原料ビスアミドの合成プロセスについて研究を行なった。Pbビスアミドは通常1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル混合溶媒を用いて合成される。しかしながら、その溶解度は10^<-4>mol/lオーダーと極めて低く、実際的な合成には溶解度改善が不可欠である。そこで本研究では本研究の目的化合物構成元素のTe共存下で次のような合成プロセスの検討を行なった。TeCl_4(0.004mol)を1,4-ジオキサン(200ml)、ジエチルエーテル(100ml)混合溶媒に加え溶解させた。これを氷浴中で3℃に冷却し、LiN[Si(CH_3)_3]_2(0.024mol)をゆっくりと加えた後、58.5℃で1h加熱かくはん還流を行った。室温まで放冷した後、これにPbCl_2(0.004mol)加え、58.5℃で2h加熱かくはん還流を行った。デカンテーションにより溶液から副生成物であるLiClを分離し、PbTe混合ビスアミド(PbTe{N[Si(CH_3)_3]_2}_6)の1,4-ジオキサン、ジエチルエーテル溶液を得た。更に、LiN[Si(CH_3)_3]_2存在下のTeビスアミド中におけるPbCl_2の反応率を測定するため、TeCl_4を0.001mol、0.003mol、0.005mol、0.007mol、0.01mol、0.015molに変えて上述の同様の操作を行った。この時、PbCl_2及び:LiN[Si(CH_3)_3]_2のモル量はPbTe合成が化学量論的に進行するようにPbCl_2はTeCl_4と等モルに、LiN[Si(CH_3)_3]_2は6倍モルにした。この結果、共存Teビスアミド濃度を0.017mol/l以下にすればPbビスアミドが全量溶解し、PbTe合成に適した原料溶液が調製できることが明らかになった。
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