| 研究概要 |
本研究の目的は,半導体微細加工技術等によりシリコンおよびガラス曲面に製作したナノ構造をモールディング(型加工)により転写し,曲面大面積ナノ構造を生産する技術を確立することである.
本年度は,まずシリコンおよびガラス鋳型を平面状に製作した.1次の鋳型をシリコンおよびガラス基板の表面に100nmオーダの超微細周期構造を電子線描画装置により製作した.大面積ナノ構造としては,超微細周期の無反射構造および色フィルタ構造を製作した.描画装置のステージを改良し,三次元的な試料表面への描画を実現する電子線描画装置にZ方向ステージを追加改良し,超微細構造格子パターンを描画するためのソフトウエアを開発した.電子線描画により平面に100nmスケールのパターン描画を実現した.レジストを現像し,レジストをマスクとしてシリコンをSF6高速原子線によりエッチングした.100nmスケールの鋳型の製作に成功した.製作したナノ構造の鋳型を電子線顕微鏡により構造評価した.反射防止表面と色フィルターの光学特性を測定し,有効な結果を得た.曲面への加工のため,ポーラスアルミナ膜をマスクとして,アルミ曲面への加工を試み,ある程度の転写特性が得られた.有機材料へのモールド転写を実現するために,プラスチックモールド形成装置を立ち上げた.PMMAを用いて,180℃,50MP程度の圧力印加により600nm周期のパターンの転写に成功した.転写幅には6%の変化が生じた.
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