| 研究概要 |
本研究の目的は,半導体微細加工技術等により,シリコンおよびガラス曲面に製作したナノ構造をモールディング(型加工)により転写し,曲面大面積ナノ構造を製作する技術を確立することである.
本年度は,平面上に製作したシリコンおよびガラス鋳型を用いて,UVナノインプリントにより転写加工を行った.1次の鋳型をシリコン基板の表面に100nmオーダの微細周期構造を電子線描画により製作した.構造としては,透過型三原色用色フィルタ構造およびフレネルレンズ格子(最小周期400nm)を製作した.インプリント装置として,鋳型転写用加圧装置を利用したが,均一な加圧ができるよう,改良と条件だしを行った.数センチ角領域において,100nmレベルの微細構造の転写が実現できるようになった.レプリカの転写精度を測定した.色フィルタの光学特性を理論計算し,格子を設計した.理論設計に基づいて格子を製作し,透過率測定実験の結果と比較した.定性的に結果を説明できた.大面積曲面に反射防止用の超微細格子構造を製作するため,曲面加工したアルミ材料の表面にポーラスアルミ構造を陽極酸化により製作する方法を検討した.試作を行い,表面形状を評価した.平面に比べ,ポーラス構造の均一性を向上させることが必要であることが分かった.今後の改善を検討した.さらに,平板ガラスマスクから,円筒面への転写方法として転動露光方法を検討した.またナノインプリントの型としてポリマー系の材料を用いたフレキシブルなモールドによる転写方法も検討した.
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