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2005 年度 実績報告書

シリコン単電子デバイスによる単一イオンの動き検出

研究課題

研究課題/領域番号 16656106
研究機関静岡大学

研究代表者

田部 道晴  静岡大学, 電子工学研究所, 教授 (80262799)

研究分担者 池田 浩也  静岡大学, 電子工学研究所, 助教授 (00262882)
石川 靖彦  東京大学, 大学院・工学系研究科, 助手 (60303541)
前田 正彦  金沢工業大学, 工学部, 教授 (50329372)
キーワードシリコン / 単電子デバイス / 単一イオンの検出
研究概要

本研究は、電子1個1個のトンネリングを制御したシリコン単電子デバイスに可動性イオンを導入し、電流振動特性の変化から単一イオンの空間的動きを検出することを目的としている。
そのためには、可動性イオンが偏析しやすい構造を単電子FETの側に用意する必要がある。17年度は、2枚の(100)SOI層をわずかに面内角度をずらせて貼り合わせ、これによって形成されるらせん転位網を内包したいわゆるバイクリスタル構造のTEM観察とバイクリスタルFETのI_d-V_g特性を詳しく調べた。その主な結果は以下のとおりである。
2つの薄いSOI層を貼り合わせた構造は、平面TEM像では全面にらせん転位網によるメッシュ構造が観察され、その周期は予測どおり、概ね面内のずれ角に逆比例した値となった。また、転位網をチャネル領域に内包したバイクリスタルFETのI_d-V_g特性においては、電流の立ち上がり領域で電流振動が見られ、その振る舞いの解析からこれが単電子トンネル特性であることを明らかにした(Appl.Phys.Lett.(2006))。さらに、貼り合わせ界面の位置によって転位網チャネルのしきい値電圧が変化することを見出した。このように人為的に転位網を導入して単電子特性を得ることができたことは、世界的にみても初めてのことであり、可動イオンを導入する準備が整った。
また、Liイオン導入後、XPSでその深さ方向分布を測定する必要があるが、上記バイクリスタル層が20nm/20nmと薄いため、これに適したスパッタレートの調整を行い測定の準備を整えた。

  • 研究成果

    (8件)

すべて 2006 2005

すべて 雑誌論文 (7件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Single-photon-induced random-telegraph-signal in a two-dimensional multiple-tunnel-junction array2006

    • 著者名/発表者名
      Ratno Nuryadi, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Physical Review B 73・4

      ページ: 045310-1-045310-7

  • [雑誌論文] Single-electron tunneling in a silicon-on-insulator layer embedding an artificial dislocation network2006

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiko Ishikawa, Chihiro Yamamoto, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 88・7

      ページ: 073112-1-073112-3

  • [雑誌論文] Fowler-Nordheim Current Oscillations in Si(111)/SiO_2/twisted-Si(111) Tunneling Structures2006

    • 著者名/発表者名
      Daniel Moraru, Hiroshi Kato, Seiji Horiguchi, Yasuhiko Ishikawa, Hiroya Ikeda, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 45・11

      ページ: L316-L318

  • [雑誌論文] Numerical Study of Turnstile Operation in Random-Multidot-Channel Field-Effect Transistor2006

    • 著者名/発表者名
      Hiroya Ikeda, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics (掲載決定)

  • [雑誌論文] Diffusion of Li in the silicon oxide films and evaluation of Li-induced surface potensial2005

    • 著者名/発表者名
      Masahiko Maeda, Teruyoshi Watanabe, Yasuhiro Imai, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 244・1-4

      ページ: 61-64

  • [雑誌論文] Conductivity Enhancement in Thin Silicon-on-Insulator Layer Embedding Aritificial Dislocation Network2005

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiko Ishikawa, Kazuaki Yamauchi, Chihiro Yamamoto, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Materials Research Society Symposium Proceedings 864

      ページ: E6.5.1-E6.5.6

  • [雑誌論文] Thermally induced formation of Si wire array on an ultrathin (111) silicon-on-insulator substrate2005

    • 著者名/発表者名
      Zainai A.Burhanudin, Ratno Nuryadi, Yasuhiko Ishikawa, Michiharu Tabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 87・12

      ページ: 121905-1-121905-3

  • [図書] Silicon Nanoelectronics, Chap.6 Resonant tunneling in Si nanodevices (Edited by Sunri Oda, David Ferry)2006

    • 著者名/発表者名
      Michiharu Tabe, Hiroya Ikeda, Yasuhiko Ishikawa
    • 総ページ数
      22(133-154)
    • 出版者
      CRC Press

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公開日: 2007-04-02   更新日: 2016-04-21  

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