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テトラジチオールシクロヘキサントリオン(TDTCHTO)やヘキサメチルテトラジチオールシクロヘキサントリオン(HMTDTCHTO)、トリフェニルボロキシン(TPHBRX)、トリフェニルベンゼン(TPHBEN)、トリフェニルトリアジン(TPTRAZ)といった3回対称性をもつ有機分子の超薄膜における構造形成のメカニズムについて研究を行った。TDTCTHOについてはHMTDTCHTOとの相違点をグラファイト基板を模した炭素原子からなる巨大分子との相互作用を数値計算により調べている。TPHBRXについては分子の基板との距離による構造緩和の影響を膜厚の違いによる膜の昇華速度の違いにより調べている。膜厚が厚くなると昇華速度が速くなった。これは厚くなると分子間の相互作用が相対的に強くなることが考えられる。そこで膜厚の小さい薄膜について基板との相互作用の結晶構造に対する影響を調べている。また、TPHBENとTPTRAZは分子の形状が非常に似通っているが基板に対する分子吸着姿勢はTPHBENが分子面が基板に平行なのに対し、TPTRAZは分子面が垂直に立つことが分かった。その原因は分子の周囲が同じフェニル基なので、中心の6員環の違いによる分子面同士の結びつきの強さのちがいによるものか、フェニル基の中心の6員環とのねじれ角との違いにより分子面の整合の立体障害が異なることによるものか2通り考えられ、いずなのかを調べる一方、TPHBENの上にTPTRAZの膜を作成し構造を調べてTPHRAZの分子面を基板に平行になるような薄膜が作成できないか試みている。
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