近年我々は、高性能な脱水型アリル化・脱アリル化触媒(キナルジン酸(QAH)-CpRu)を開発し、アリル系保護基の有用性を格段に向上した。これ出発点として新しい光学活性ピコリン酸型配位子Cl-Naph-PyCOOH および従来にないsp2窒素系2座配位子Naph-diPIM-dioxo-iPrのCpRu錯体とブレンステッド酸からなるソフト・ハード混合触媒を開発し、超効率的な脱水型不斉Tsuji-Trost(T-T)反応を可能にした。これら二つの触媒系において、それぞれ基質適用範囲の徹底検証を行うとともに、機構解明研究を実施し、反応経路の推定および反応性エナンチオ選択性発現の起源を追求した。
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