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2017 年度 実績報告書

シリコン中のドーパント原子を用いた単一フォノン制御

研究課題

研究課題/領域番号 16H02339
研究機関静岡大学

研究代表者

小野 行徳  静岡大学, 電子工学研究所, 教授 (80374073)

研究分担者 堀 匡寛  静岡大学, 電子工学研究所, 講師 (50643269)
Moraru Daniel  静岡大学, 電子工学研究所, 准教授 (60549715)
研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2020-03-31
キーワードフォノン / シリコン / ドーパント
研究実績の概要

電子を微小領域に閉じこめることにより形成される、いわゆる人工原子(量子ドット)は、単一電荷の操作を可能とし、これにより、量子情報処理、通信、センサー、電気計測分野の標準器など、幅広い分野への応用が期待されている。我々のゴールは、人工原子ではなく、半導体(シリコン)中の「ドーパント原子」を用いた革新技術を創生することにある。本申請に関わる研究では、ドーパント原子が持つフォノンとの強結合に着目し、単一ドーパント原子を用いた単一フォノンの生成、伝送(転送)、消滅の電気的制御を実証する。これにより、固体素子における電子系⇔格子系エネルギー変換を単一フォノンのレベルで制御するための基盤技術を確立し、超低消費電力情報処理技術の創生に向けた「単一フォノン工学:Single Phononics」の礎を築く。
本年度は、ナノスケールpn接合の電流特性を低温にて測定し、フォノン放出を伴うトンネル過程と、ドーパントを経由するトンネル過程との相関を詳細に調べた。フォノン放出過程とドーパント原子を介したトンネル過程に相関がみられるなど、新しい現象が発見さており、今後大きく発展する可能性がある。また、T字型デバイスのエネルギー散逸過程を詳細に調べ、電子電子散乱がデバイス特性を支配すること等を明らかにした。この実験では、電子電子散乱がフォノン散乱過程観測の阻害要因であることを明らかにしたことにより、今後順調に推移するものと思われる。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

単一フォノン検出のための実験は若干遅れ気味であるが、一方、フォノン放出過程とドーパント原子を介したトンネル過程に相関がみられるなど、新しい現象が発見さており、今後大きく発展する可能性がある。また、T字型デバイスにおける実験では、電子電子散乱がフォノン散乱過程観測の阻害要因であることを明らかにしたことにより、今後順調に推移するものと思われる。

今後の研究の推進方策

ナノスケールpn接合の詳細検討を進めるとともに、ドーパントに起因したランダムテレクラ不信号の解析に着手し、フォノン信号受信の感度を評価する。また、ボロン原子トランジスタの300mKでの極低温計測を開始し、光学フォノン放出過程を検出する。また、T字型デバイスにおいては、電子濃度を変調させることにより、フォノン散乱と弾道電子電流との相関を明らかにする。

  • 研究成果

    (14件)

すべて 2018 2017 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (12件) (うち国際学会 5件、 招待講演 3件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Real-time Monitoring of Charge-pumping Process for SiO2/Si Interface Analysis2017

    • 著者名/発表者名
      M. Hori, T. Watanabe and Y. Ono
    • 雑誌名

      Intl. Symp. Elec. and Com. Eng

      巻: - ページ: 52-56

    • DOI

      10.1109/QIR.2017.8168450

    • 査読あり
  • [学会発表] Silicon-on-insulatorデバイスにおける低温チャージポンピング2018

    • 著者名/発表者名
      渡邉時暢、堀匡寛、小野行徳
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会
  • [学会発表] PtHfSi/p-Si(100)ショットキー接合の低温特性2018

    • 著者名/発表者名
      渡邉時暢、多胡友、杉浦史悦、堀匡寛、小野行徳、塚本裕也、大見俊一郎
    • 学会等名
      平成29年度生体医歯工学共同研究拠点成果報告会
  • [学会発表] 身近な糖を燃料とするバイオ発電デバイスの開発2018

    • 著者名/発表者名
      三宅丈雄、堀匡寛、小野行徳
    • 学会等名
      平成29年度生体医歯工学共同研究拠点成果報告会
  • [学会発表] チャージポンピングEDMR法を用いたシリコン酸化膜界面欠陥の検出2018

    • 著者名/発表者名
      堀匡寛、土屋敏章、小野行徳
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • 招待講演
  • [学会発表] チャージポンピング法によるSi/SiO2界面近傍酸化膜トラップの評価2018

    • 著者名/発表者名
      土屋敏章、堀匡寛、小野行徳
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] チャージポンピングEDMR法における信号強度の温度異存性評価2018

    • 著者名/発表者名
      安藤克哉、堀匡寛、土屋敏章、小野行徳
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] Observation of Impact Ionization in Silicon at Low Temperature2017

    • 著者名/発表者名
      Y.Ono,H.Firdaus,and M.Hori
    • 学会等名
      IV Bilateral Italy-Japan Seminar
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Charge pumping EDMR towards ultimate charge/spin control at room temperature in silicon2017

    • 著者名/発表者名
      M.Hori and Y.Ono
    • 学会等名
      IV Bilateral Italy-Japan Seminar
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Sensitive Detection of Holes Generated by Impact Lonization in Silicon2017

    • 著者名/発表者名
      H.Firdaus,M.Hori, Y.Takahashi, A.Fujiwara and Y.Ono
    • 学会等名
      2017 Silicon Nanoelectronics Workshop
    • 国際学会
  • [学会発表] Real-time Monitoring of Charge-pumping Process for SiO2/Si Interface Analysis2017

    • 著者名/発表者名
      M.Hori,T.Watanabe and Y.Ono
    • 学会等名
      The 15th International Conference on QiR
    • 国際学会
  • [学会発表] Charge pump in silicon-Physics and application of charge transfer-2017

    • 著者名/発表者名
      Y.Ono
    • 学会等名
      16th International Conference on Global Research and Education
    • 国際学会
  • [学会発表] チャージポンピングEDMR法を用いたシリコン酸化膜界面欠陥の検出2017

    • 著者名/発表者名
      堀匡寛、土屋敏章、小野行徳
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
  • [備考] 静岡大学電子工学研究所 小野・堀研究室ホームページ

    • URL

      https://wwp.shizuoka.ac.jp/nano/

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公開日: 2018-12-17  

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