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研究成果発表報告書

非水電析の高度化に向けた反応場制御~3つの速度論的アプローチ~

研究課題

研究課題/領域番号 16H02411
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 金属・資源生産工学
研究機関京都大学

研究代表者

邑瀬 邦明  京都大学, 工学研究科, 教授 (30283633)

研究分担者 深見 一弘  京都大学, 工学研究科, 准教授 (60452322)
北田 敦  京都大学, 工学研究科, 助教 (30636254)
研究協力者 井口 翔太  
加藤 有紀也  
川田 稀士  
近都 康平  
小山 輝  
櫻井 彬裕  
竹岡 駿  
水野 湧太  
八十嶋 珠仁  
研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
  • 研究成果

    (2件)

すべて 2022 2019

すべて 雑誌論文 (1件) (うち国際共著 1件、 査読あり 1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Spontaneous Symmetry Breaking of Nanoscale Spatiotemporal Pattern as the Origin of Helical Nanopore Etching in Silicon2019

    • 著者名/発表者名
      T. Yasuda, Y. Maeda, K. Matsuzaki, Y. Okazaki, R. Oda, A. Kitada, K. Murase, and K. Fukami
    • 雑誌名

      ACS Applied Materials & Interfaces

      巻: 11 号: 51 ページ: 48604-48611

    • DOI

      10.1021/acsami.9b18025

    • 査読あり / 国際共著
  • [産業財産権] 金属または金属塩の溶解用溶液およびその利用2022

    • 発明者名
      北田 敦、安達 謙、邑瀬邦明
    • 権利者名
      京都大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特許第7095867号

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公開日: 2024-03-28  

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