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2016 年度 実績報告書

SiC酸化膜形成過程に対する自律的位相空間探索による量子・古典ハイブリッド解析

研究課題

研究課題/領域番号 16H03830
研究機関国立研究開発法人物質・材料研究機構

研究代表者

大野 隆央  国立研究開発法人物質・材料研究機構, 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点, NIMS招聘研究員 (30344435)

研究分担者 泉 聡志  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (30322069)
研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
キーワードナノ材料 / 計算物理 / 表面・界面物性
研究実績の概要

・第一原理計算の計算時間短縮を目指して電子状態の収束判定に用いる全エネルギー表式を調整するなどの収束性の向上を検討した。
・ボンドオーダーにイオン項を組み込んだSi-O系の電荷移動型ポテンシャルを開発した。パラメータ合わせ込みにはアモルファス構造を中心として第一原理計算(PHASE/0)で求めた約5,000個の系,400,000個の物性値を使用した。Si(100)表面の初期酸化の動力学計算を実施した結果、酸化界面のSiO2層の密度分布などに関して実験結果と一致する傾向が得られた。
・第一原理計算を用いて、4H-SiCのSi面およびC面の上部にアモルファス状のSiO2膜を重ねてアニールした系に対して、界面近傍にO2分子を連続的に供給して長時間MD解析を実施した。その結果、CO分子やCO2分子の脱離、Cクラスタの形成など熱酸化による界面構造の変化が得られた。CクラスタはC面界面ではSi面より大きく凝集する傾向が見られた。
・PHASE/0による第一原理MD解析で得られた多数のSiC/SiO2界面構造を教師データとして、Si-C-O系の電荷移動型ポテンシャルを開発した。4H-SiCのSi面およびC面に関して、SiC/アモルファスSiO2界面付近に繰り返しO2分子を挿入して熱酸化シミュレーションを実施した。その結果、C面ではSi面より速く酸化膜が成長するなど実験結果と一致する様子がみられた。
・SiC熱脱離によるグラフェンの成長を解析するため、Si-C系の電荷移動型ポテンシャルを開発した。パラメータの合わせ込みにはSiC表面のCクラスタ構造を含むPHASE/0で求めた約2,600個の系,210,000個の物性値を使用した。開発したポテンシャルを用いてステップを有する4H-SiCの高温アニールによるグラフェン成長過程の長時間古典MD解析を開始した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

第一原理計算と古典計算の連携による量子・古典ハイブリッド解析に関しては、Si酸化膜やSiC酸化膜に適用し論文や学会で発表できるレベルの成果が出ており、量子論に基づいた電荷移動型ポテンシャルの有効性が確認された。SiC熱酸化シミュレーションに関しても、実験研究者との密な議論の下で、酸化過程の理解が進展しており、全体としておおむね順調に進んでいる。

今後の研究の推進方策

・第一原理MD解析をより長時間化するため計算負荷の軽減を図る。第一原理計算における部分空間対角化、GS直交化、非局所ポテンシャル積分等の高い計算負荷の演算に関して、アルゴリズムの開発、及びプログラムの改良を実施する。
・現在、第一原理計算を参照として遺伝的アルゴリズムに基づいて半自動的に実施している古典力場の最適化法を改良し、位相空間内を自律的・統計的にサンプリングし、その探索領域を格段に広げるスキームの開発を目指す。
・第一原理および古典力場によるSiC/SiO2界面酸化シミュレーションを引き続き実施する。Si面やC面など界面構造の差が酸化速度など酸化過程に及ぼす効果に注目して、実験研究と連携しつつ、SiC/SiO2界面構造の変化、Cクラスタ形成、CO脱離、界面Si移動、欠陥準位形成など酸化に伴う界面形成過程の解析を進めSiC酸化機構の理解の深化を図る。同時に、解析手法の高度化と連携、古典力場の最適化などを検討する。
・SiC熱脱離によるグラフェン成長過程の長時間古典MD解析を進め、SiC酸化膜以外の界面形成過程への量子・古典ハイブリッド手法の適用拡大を図る。

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2017 2016

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (6件) (うち国際学会 2件)

  • [雑誌論文] Charge-Transfer Interatomic Potential for Investigation of the Thermal-Oxidation Growth Process of Silicon2016

    • 著者名/発表者名
      S. Takamoto, T. Kumagai, T. Yamasaki, T. Ohno, C. kaneta, A. Hatano, and S. Izumi
    • 雑誌名

      J. Applied Physics

      巻: 120 ページ: 165109-1-10

    • DOI

      10.1063/1.4965863

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [学会発表] 電荷移動型分子動力学法による4H-SiCの熱酸化シミュレーション2017

    • 著者名/発表者名
      高本聡、山崎隆浩、大野隆央、金田千穂子、泉聡志、酒井信介
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜、横浜市
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] 4H-SiC/SiO2界面O2酸化の第一原理シミュレーション~界面における炭素関連欠陥の電子状態~2017

    • 著者名/発表者名
      山崎隆浩、田島暢夫、金子智昭、奈良純、清水達雄、加藤弘一、大野隆央
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜、横浜市
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] Carbon Concentration and Carbon Oxides Desorption at Interfaces of 4H-SiC(0001)Si/SiO2 and (000-1)C/SiO2 in Oxidation Processes2016

    • 著者名/発表者名
      T. Yamsaki, N. Tajima, T. Kaneko, J. Nara, T. Schimizu, K. Kato, and T. Ohno
    • 学会等名
      11th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials
    • 発表場所
      Halkidiki, Greece
    • 年月日
      2016-09-25 – 2016-09-29
    • 国際学会
  • [学会発表] Thermal Oxidation Simulation of Silicon by Charge Transfer Type Molecular Dynamics2016

    • 著者名/発表者名
      S. Takamoto, T. Kumagai, T. Yamasaki, T. Ohno, C. kaneta, A. Hatano, and S. Izumi
    • 学会等名
      Asia-Pacific Conference on Fracture and Strength 2016
    • 発表場所
      Toyama, Japan
    • 年月日
      2016-09-19 – 2016-09-22
    • 国際学会
  • [学会発表] SiC表面上のSi熱脱離グラフェン成長機構に関するナノ秒オーダーの長時間分子動力学解析2016

    • 著者名/発表者名
      今泉俊介、高本聡、山崎隆浩、奈良純、大野隆央、泉聡志
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ、新潟市
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [学会発表] 4H-SiC/SiO2界面O2酸化の第一原理シミュレーション~SiC(0001)Si面と(000-1)C面の違い~2016

    • 著者名/発表者名
      山崎隆浩、田島暢夫、金子智昭、清水達雄、加藤弘一、大野隆央
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ、新潟市
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16

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公開日: 2018-01-16  

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