研究課題
NTT物性科学基礎研究所において、パタン化したＳＡＭ膜を用いて空間的にキャリア濃度を変調したグラフェン膜を作製した。高キャリア濃度および低キャリア濃度それぞれの部分に閉じ込められたプラズモンはテラヘルツ分光により異なる周波数に観測された。またこれらのプラズモンの共鳴周波数のゲート電圧による変調も観測することができた。これらの結果はキャリア濃度の空間的変調によりプラズモンを閉じ込めることができることを示している。また兵庫県立大学において、グラフェンの基板として注目される六方晶窒化ホウ素の超高真空中合成とその真空一貫分析を行った。単原子層六方晶窒化ホウ素は我々が開発してきた固相反応のみを利用する拡散・析出法によりＮｉ箔上に行った。Ｎｉ上の単原子層六方晶窒化ホウ素のＸ線吸収分光はこれまでも幾つか報告されており、いずれも六方晶窒化ホウ素がＮｉに化学吸着しているという結果が得られている。しかしながら、今回我々が作製した六方晶窒化ホウ素はＸ線吸収分光の結果からＮｉに物理吸着していることが明らかとなった。またこの違いは基板のＮｉの面方位の違いによるものである。即ち、六方晶窒化ホウ素と格子整合するＮｉ（１１１）面上では六方晶窒化ホウ素のパイ電子はＮｉ３ｄ電子と結合し化学吸着するが、それ以外の面では物理吸着することがわかった。なお、Ｘ線発光分光による分析でも同様な結果が得られたが、単原子層六方晶窒化ホウ素のＸ線発光分光の放出角依存性の観測はこれが世界で初めてである。
平成30年度が最終年度であるため、記入しない。
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Japanese Journal of Applied Physics
巻: 57 ページ: 110307～110307
10.7567/JJAP.57.110307
Materials Research Express
巻: 6 ページ: 016304～016304
10.1088/2053-1591/aae5b4
