| 研究課題/領域番号 |
16H04254
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
設計工学・機械機能要素・トライボロジー
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
進士 忠彦 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 教授 (60272720)
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| 研究協力者 |
中野 正基
土方 亘
長峯 靖之
松谷 晃宏
韓 冬
鈴木 健一
門田 祥吾
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | 磁石 / 微細加工 / 微細着磁 / パルスレーザ堆積法 / 放電加工 / レーザ局所加熱 / マイクロアクチュエータ |
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| 研究成果の概要 |
本研究では，焼結磁石の低ダメージ薄板加工法，PLD（パルスレーザ堆積法）を用いた厚膜磁石堆積法を検討するとともに，それら磁石の微細加工，レーザ局所加熱を用いた微細着磁法の基礎研究を実施している．それら成果と，従来のMEMSプロセス技術を組み合わることで，スマートフォンなどのモバイル機器に利用可能な多自由度駆動マイクロアクチュエータの提案，試作，評価を実施している．
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| 自由記述の分野 |
精密工学，メカトロニクス
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
焼結ネオジム磁石は，自動車，家電，情報機器などのアクチュエータに多く使われている材料である．しかしながら，磁石サイズを１ｍｍ以下に加工しようとすると，材料劣化の影響で十分な磁気特性が発現できない．また，MEMSプロセスで使われる磁石は扁平になるが，多極に着磁しないと十分な磁束を発生できない．これらの問題を解決するため，薄板（厚膜）磁石の製作方法や，レーザを使った新しい微細着磁法を本研究で開発した．また，これらの技術を用いることで実現可能なマイクロアクチュエータを提案，試作，評価している．
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