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2018 年度 実績報告書

大気圧プラズマジェットを用いたフレキシブル基板上単結晶シリコンCMOS技術

研究課題

研究課題/領域番号 16H04334
研究機関広島大学

研究代表者

東 清一郎  広島大学, 先端物質科学研究科, 教授 (30363047)

研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
キーワード結晶成長 / 大気圧プラズマ
研究実績の概要

大気圧熱プラズマジェット(TPJ)をアモルファスシリコンに照射しつつ高速走査することで、シリコン溶融領域からの横方向結晶成長を誘起する手法において、従来の4m/sの走査速度を大幅に上回る成長速度の達成を目指した。このために、①ArにN2を少量添加したN2添加TPJでは最大125 kW/cm2のハイパワー化を達成し、超ハイパワーTPJ発生技術を開発、②回転ステージでアモルファスシリコン試料を走査しつつTPJ照射する手法を開発した。
上記①および②の実現によって超高速成長の実験をおこなった結果、従来の走査速度4 m/sに対して18 m/sの超高速で結晶化が可能であることを確認した。また、回転ステージで溶融結晶化を行ないつつ、各走査における結晶成長領域の重なりを50%とすることで、(111)結晶方位に揃った結晶が連続成長していることが分かり、この成長方法で大面積に渡って面方位制御された結晶を成長できる可能性があることを明らかにした。

現在までの達成度 (段落)

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2018

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 5件、 招待講演 3件)

  • [雑誌論文] Extremely high-power-density atmospheric-pressure thermal plasma jet generated by the nitrogen-boosted effect2018

    • 著者名/発表者名
      H. Hanafusa, R. Nakashima, W. Nakano, and S. Higashi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 57 ページ: 06JH01-1-4

    • DOI

      10.7567/JJAP.57.06JH01

    • 査読あり
  • [学会発表] Melting and Crystallization of Amorphous Germanium Films on Insulating Substrate By Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet2018

    • 著者名/発表者名
      S. Higash, H. Harada, and T. Nakatani
    • 学会等名
      2018 ECS and SMEQ Joint Int. Meeting (Cancun, Mexico, Sept. 30 - Oct. 4, 2018), #1064
    • 国際学会
  • [学会発表] Analysis of a Molten Region on Amorphous Silicon Film By High-Speed Camera and Contactless Temperature Measurement during Atmospheric Pressure Thermal Plasma Jet Annealing2018

    • 著者名/発表者名
      Y. Mizukawa, H. Hanafusa, and S. Higashi
    • 学会等名
      2018 ECS and SMEQ Joint Int. Meeting (Cancun, Mexico, Sept. 30 - Oct. 4, 2018), #1196
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Ultra-High-Speed Crystallization of Amorphous Silicon Films on Flexible Glass Substrate by Thermal-PlasmaJet Irradiation Using Cylindrical Rotation Stage2018

    • 著者名/発表者名
      W. Nakano, H. Hanafusa, S. Higashi
    • 学会等名
      2018 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2018), (Tokyo, Japan, Sept. 9-13, 2018). N-8-04
    • 国際学会
  • [学会発表] Activation of High-temperature-implanted Phosphorus Atoms in 4H-SiC by Atmospheric Pressure Thermal Plasma Jet Annealing2018

    • 著者名/発表者名
      H. Hanafusa, S. Higashi
    • 学会等名
      Ext. Abs. 2018 18th Int. Workshop Junction Tech. (IWJT-2018), (Shanghai, China, Mar. 8-9, 2018), pp. 24-27
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Nitrogen-boosted Atmospheric Pressure Thermal-Plasma-Jet Generation and Its Application to Crystallization of Amorphous Silicon Films on Flexible Glass2018

    • 著者名/発表者名
      S. Higashi
    • 学会等名
      2018 Int. Thin-Film Transistor Conf. (ITC2018), (Guangzhou, China, Feb.- Mar. 2, 2018), pp. 46
    • 国際学会 / 招待講演

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公開日: 2019-12-27  

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