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保磁力の異なる規則化合金FePtナノドットの二層構造の局所電気伝導特性を非磁性AFM探針を用いて評価した結果、ナノドットの保磁力差を反映してドットの磁化状態に起因する電子輸送変化が室温で観測できた。また、4.5kOeで平行磁化状態を実現でき、1.0~2.0kOeを印加することで保磁力の小さな下層ドットの磁化方向のみを制御できることが分かった。さらには、シリコン熱酸化膜上の極薄Fe/Si/Fe積層構造を外部非加熱でリモートH2プラズマ処理することで、Feシリサイドナノドットが高密度・一括形成できるとともに、初期膜厚の組成比を制御することで、ホイスラー合金Fe3Si相のナノドットの形成を実現した。
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