単原子スペクトロスコピーの高度化研究

2016 年度 研究概要(採択時)

• 研究課題/領域番号: 16H06333
• 研究種目: 基盤研究(S)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 薄膜・表面界面物性
• 研究機関: 大阪大学 (2020); 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (2016-2019)
• 研究代表者: 末永 和知 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (00357253)
• 研究分担者: 千賀 亮典 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (80713221) ; Lin YungChang 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (90772244)
• 研究期間 (年度): 2016-05-31 – 2021-03-31