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2019 年度 研究概要(研究進捗評価)
単原子スペクトロスコピーの高度化研究
研究課題
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研究課題/領域番号
16H06333
研究種目
基盤研究(S)
配分区分
補助金
研究分野
薄膜・表面界面物性
研究機関
大阪大学
(2020)
国立研究開発法人産業技術総合研究所
(2016-2019)
研究代表者
末永 和知
大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (00357253)
研究分担者
千賀 亮典
国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (80713221)
Lin YungChang
国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (90772244)
研究期間 (年度)
2016-05-31 – 2021-03-31