| 研究課題/領域番号 |
16H06333
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| 研究種目 |
基盤研究(S)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 大阪大学 (2020)
国立研究開発法人産業技術総合研究所 (2016-2019) |
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研究代表者 |
末永 和知 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (00357253)
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| 研究分担者 |
千賀 亮典 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (80713221)
Lin YungChang 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (90772244)
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| 研究期間 (年度) |
2016-05-31 – 2021-03-31
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| 評価記号 |
評価結果 (区分)
A-: 当初目標に向けて概ね順調に研究が進展しており、一定の成果が見込まれるが、一部に遅れ等が認められるため、今後努力が必要である
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