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2017 年度 研究成果報告書

GaFeO3型酸化物薄膜を基にした室温マルチフェロイック材料の探索

研究課題

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研究課題/領域番号 16H06794
研究種目

研究活動スタート支援

配分区分補助金
研究分野 無機材料・物性
研究機関東京大学 (2017)
東京工業大学 (2016)

研究代表者

片山 司  東京大学, 大学院理学系研究科(理学部), 特任助教 (50784617)

研究期間 (年度) 2016-08-26 – 2018-03-31
キーワード酸化物薄膜 / マルチフェロイック / 強磁性 / 強誘電性
研究成果の概要

大きな電気磁気効果を示すマルチフェロイック材料は基礎研究のみならず、省電力デバイスなどの応用の観点からも重要である。しかし現在、室温動作可能なマルチフェロイック材料は非常に限られており、新たな材料開発が求められてた。本研究では室温で強誘電性とフェリ磁性を示すGaFeO3型酸化物薄膜に注目し、室温での大きな電気磁気効果発現と室温マルチフェロイック材料創出を目指した。GaFeO3型薄膜はリーク電流が大きいという課題があったが、申請者はSc置換によりリーク電流の大幅に減少することを見出し、良質な強誘電ヒステリシスを得ることに成功した。また元素置換による室温での幅広い磁気特性制御にも成功した。

自由記述の分野

セラミックス

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公開日: 2019-03-29  

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