大気圧プラズマプロセスにおいては、プラズマに大気が混入することにより、プロセス条件の制御が困難であることから、本研究では、簡易な設備で外気を遮断し高密度かつ高純度の活性種を利用する大気中プラズマプロセス技術の確立を目的とした。マイクロ波放電による水蒸気プラズマの周囲に円錐状水流を設けることにより、プラズマへの大気混入を抑制することに成功した。また、本研究のプラズマ装置を用いたフォトレジスト除去に成功した。水流による遮蔽がない場合、水蒸気プラズマに大気中の大気が混入し、除去処理が行えなかったことから、水流による大気遮蔽の効果と水由来活性種の生成量の増加が示された。
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