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2016 年度 実績報告書

ホイスラー合金膜を用いた実用スピントロニクス素子の開発

研究課題

研究課題/領域番号 16H07436
研究機関国立研究開発法人物質・材料研究機構

研究代表者

中谷 友也  国立研究開発法人物質・材料研究機構, 磁性・スピントロニクス材料研究拠点, 主任研究員 (60782646)

研究期間 (年度) 2016-08-26 – 2018-03-31
キーワードホイスラー合金 / ハーフメタル / 巨大磁気抵抗 / 磁気センサー
研究実績の概要

様々な組成のホイスラー合金の単結晶薄膜および多結晶薄膜を用いて、面直電流巨大磁気抵抗(CPP-GMR)素子を作製し、合金組成、薄膜の微細構造と磁気抵抗(MR)出力の関連を調査した。その結果、300Cのアニール温度において、Co2(Mn,Fe)Ge合金が多結晶薄膜において最大のMR出力を示すことが確認された。X線回折や放射光を用いた異常分散X線回折により多結晶Co2(Mn,Fe)Geの規則構造を評価した。結晶下地層の上のCo2(Mn,Fe)Ge膜はB2規則であり、その規則度はせいぜい50%であることがわかった。次に、他グループによって報告されている、極薄CoFeBTa下地層挿入によるCPP-GMRの増大メカニズムについて調査した。アモルファスCoFeBTa下地上にCo2(Mn,Fe)Ge膜を作製することにより、MR変化量が30%増大するが、その際にB2規則度がCoFeBTaを挿入しない場合の規則度50%に対し、CoFeBTa挿入によって規則度が75%まで改善されることによる効果であることがわかった。これはアモルファス上に作製されたホイスラー合金膜がナノ結晶状態からアニールにより配向多結晶に再結晶する際に、規則化が進展する効果によるものだと考えられる。以上の結果は300Cアニールにおけるものであるが、アニール温度を400Cに上げるとむしろMR変化量が低下する、この時B2規則度も低下する。この理由は現在不明であるが、さらなる高MRの実現のために解決すべき課題である。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

当初の研究計画であるホイスラー合金の組成・プロセス条件(アニール温度等)とMRの関連、アモルファス下地層による高MR化のメカニズムについて調査し、理解が進んでいるため、進捗は順調であると評価する。

今後の研究の推進方策

ホイスラー合金の組成、アニールプロセス、下地層、非磁性スペーサー材料の改善を継続して、MR比の増大を着実に実現する。電子顕微鏡による微細構造解析(グループ内共同研究による)により材料開発研究の高効率化を図る。スピンバルブ素子における、出力とノイズ特性を評価することにより、ハードディスク磁気ヘッド応用へのポテンシャルを検討する。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2017 2016

すべて 学会発表 (6件) (うち国際学会 3件、 招待講演 2件)

  • [学会発表] Microscopic origins of enhanced output of Heusler alloy CPP-GMR readers by amorphous underlayer and conductive oxide spacer2017

    • 著者名/発表者名
      中谷友也
    • 学会等名
      TMRC 2017
    • 発表場所
      つくば国際会議場(茨城県、つくば市)
    • 年月日
      2017-08-02 – 2017-08-04
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Layer thickness effects and microstructure of CPP-GMR spin-valves with Ag/InZnO/Zn conductive oxide-based spacer layers2017

    • 著者名/発表者名
      中谷友也
    • 学会等名
      Intermag 2017
    • 発表場所
      ダブリン(アイルランド)
    • 年月日
      2017-04-24 – 2017-04-28
    • 国際学会
  • [学会発表] Enhanced CPP-GMR effect by improved B2-oreder of Co2(Mn0.6Fe0.4)Ge Heusler layer deposited on CoFeBTa amorphous underlayer2017

    • 著者名/発表者名
      中谷友也
    • 学会等名
      Intermag 2017
    • 発表場所
      ダブリン(アイルランド)
    • 年月日
      2017-04-24 – 2017-04-28
    • 国際学会
  • [学会発表] Effects of layer thickness and microstructure of CPP-GMR with Ag / InZnO / Zn spacer2017

    • 著者名/発表者名
      中谷友也
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県、横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] ホイスラー合金 CPP-GMR 再生ヘッドセンサーの開発2017

    • 著者名/発表者名
      中谷友也
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県、横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
    • 招待講演
  • [学会発表] 多結晶ホイスラー合金薄膜CPP-GMR素子の作製2016

    • 著者名/発表者名
      中谷友也
    • 学会等名
      日本磁気学会
    • 発表場所
      金沢大学(石川県、金沢市)
    • 年月日
      2016-09-05 – 2016-09-08

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公開日: 2018-01-16  

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