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2018 年度 実績報告書

二次元半導体膜を用いたヘテロ接合の創製と物性解明

研究課題

研究課題/領域番号 16J05941
研究機関首都大学東京

研究代表者

小林 佑  首都大学東京, 理学研究科, 特別研究員(PD)

研究期間 (年度) 2016-04-22 – 2019-03-31
キーワード遷移金属ダイカルコゲナイド / ナノリボン / 結晶成長 / 層状物質 / CVD / MOCVD
研究実績の概要

近年,遷移金属ダイカルコゲナイド(TMDC)を用いた面内ヘテロ接合の作製が可能になり、接合界面での新しい一次元電子系等の実現が期待されている。そのような研究に向けては、作製される試料の構造を微細に制御することが非常に重要な要素であり、解決していくべき課題である。この課題の解決に向け,我々は,原料供給の高い制御性がある有機金属原料を用いる有機金属科学気相成長(MOCVD)による合成法の開発を進めてきた。
本研究では、その原料供給の制御性を活かし、TMDCナノリボンの作製法を確立し、その構造を評価、合成メカニズムを推察した。通常の合成条件である、原料比のMo:Se=50:50では、三角形の結晶が作製されるが、100:50と相対的にMoを増やすと、リボン状の結晶が成長することが明らかになった。40 nm程度と非常に細いナノリボンも成長可能である。透過電子顕微鏡観察によると、MoSe2リボンは長軸に沿って4員環チェーンの結晶粒界が試料中心に存在し、ツイン構造であることが明らかになった。この結果から、Moを相対的に増やすと4員環の初期クラスターが形成することがリボン成長に重要であると考えられる。
次に、MOCVDで一般的に促進剤として用いられるNaCl等のアルカリ金属ハライドの効果を解明した。我々は、アルカリ金属ハライド中のアルカリ金属が主に促進剤として重要な役割を果たしていることを見出した。アルカリ金属化合物を用いることで、グレインサイズや単層率が向上・核密度が低下した。さらに、走査トンネル顕微鏡観察から、不純物密度も同時に下がっていることがわかった。そして、このアルカリ金属は、350℃と非常に低温下の成長でも効果を発揮し、そのトランジスタのon/off比も、未使用の2~3から~1000と大幅に向上した。
本成果は、TMDCを用いた様々なナノ構造の作製につながると期待される。

現在までの達成度 (段落)

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (5件)

すべて 2019 2018

すべて 学会発表 (5件) (うち国際学会 1件)

  • [学会発表] Growth of monolayer chalcogenide nanoribbons and their heterostructures2019

    • 著者名/発表者名
      Yu Kobayashi, Zheng Liu, Toshifumi Irisawa, Yutaka Maniwa, Yasumitsu Miyata
    • 学会等名
      第56回フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム
  • [学会発表] Continuous hetero-epitaxy of two-dimensional multi-heterostructures2019

    • 著者名/発表者名
      Yu Kobayashi, Shoji Yoshida, Mina Maruyama, Hiroyuki Mogi, Kota Murase, Yutaka Maniwa, Osamu Takeuchi, Susumu Okada, Hidemi Shigekawa, Yasumitsu Miyata
    • 学会等名
      International Winterschool on Electronic Properties of Novel Materials 2019
    • 国際学会
  • [学会発表] 11.層状カルコゲナイドを用いた二次元多段ヘテロ構造の連続ヘテロエピタキシー2018

    • 著者名/発表者名
      小林佑、吉田昭二、丸山実那、村瀬康太、岡田晋、真庭豊、重川秀実、宮田耕充
    • 学会等名
      ナノカーボンワークショップ2018
  • [学会発表] Alkali metal-assisted growth in metal-organic chemical vapor deposition of two-dimensional layered chalcogenides2018

    • 著者名/発表者名
      Yu Kobayashi, Shoji Yoshida, Toshifumi Irisawa, Naoya Okada, Lim Hong En, Kenji Watanabe, Takashi Taniguchi, Yutaka Maniwa, Osamu Takeuchi, Hidemi Shigekawa, Yasumitsu Miyata
    • 学会等名
      第55回 フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム
  • [学会発表] Effect of Alkali Metals on Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of Layered Chalcogenides2018

    • 著者名/発表者名
      Yu Kobayashi, Shoji Yoshida, Toshifumi Irisawa, Naoya Okada, Kenji Watanabe, Takashi Taniguchi, Yutaka Maniwa, Osamu Takeuchi, Hidemi Shigekawa, Yasumitsu Miyata
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会

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公開日: 2019-12-27  

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