・ポーラスシリコン(PS)の光学定数における新たなin-situ測定方法を開発した.本方法により,すべての多孔率におけるPS光学定数測定に初めて成功した;様々なHF溶液濃度におけるシリコン層の溶解速度測定ができた;PSの光溶解現象観測および解析モデルの確立ができた. ・高量子収率61%(世界記録である)のSi/SiO2ナノ粒子の作成に成功した.1-ヘキセンを用いた気相化学修飾法の開発により,PS表面のSi-H結合をより安定なSi-C結合に置換することができた.この方法は低コストで気圧制御が簡単にできるため液相化学修飾法効率的である.
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