2次元層状構造をもつ半導体黒リンのゼーベック係数を室温から低温に至るまでの広範囲で測定し、電気伝導度の温度変化から特徴付けられる熱活性領域、ホッピング伝導領域の各領域におけるゼーベック係数の振る舞いを明らかにした。また低温極限ではゼーベック係数は温度のべき乗に比例して減少することを見出した。このことから異なる符号をもつホールと電子キャリアーが共に存在する黒リンを含む不純物半導体では、互いのゼーベック係数への寄与が低温で相殺する可能性があることを明らかにした。金属絶縁体転移近傍の臨界圧力付近において、ゼーベック係数Sを温度Tで割ったS/Tの増大をもたらす臨界的挙動を見出した。
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