| 研究課題/領域番号 |
16K06031
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| 研究機関 | 東京工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
角田 陽 東京工業高等専門学校, 機械工学科, 准教授 (60224359)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | 微細加工 / エピタキシャル成長 / テクスチャ |
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| 研究実績の概要 |
本研究におけるマイクロテクスチャとは，代表寸法がマイクロメートルオーダ以下の単位規則形状が無秩序に，または秩序よく規則的に整列配置されている面である．同面を持つ機械構造体や機械要素部品では，平滑面にはない，構造発色のような機能や摩擦減少等の省エネルギ化への寄与など，地球環境問題対策をはじめ，さまざまな分野への直接的・間接的な波及効果が期待できる．しかし，その創成技術の確立は十分とはいえない．そこで本研究では，規則的配列マイクロテクスチャ創成技術のひとつとして，雰囲気制御環境下での分子線エピタキシャル結晶成長における分子の自律的な整列現象により，従来にない多様な単位規則形状が整列したマイクロテクスチャの創成技術の確立をめざす．実際の試作実験や解析により，その創成技術の確立に資する知見を得ることを大目的としている．
本年度は，その研究目的である，雰囲気制御環境下での分子線エピタキシャル結晶成長における現象を実験結果をもとに解析し，その場合のマイクロテクスチャ創成技術として確立に資する知見を得ることをめざした．雰囲気制御環境下における平滑基板上でのエピタキシャル結晶成長実験により，単結晶基板での成長条件に対する，マイクロテクスチャの基本となる単位規則形状の創成との関係を実験的に検討した．雰囲気制御環境下における，マイクロテクスチャ面創成の明確化のための各種実験を実施し，一定の成果を得ることができている．
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
前年度にあった装置や測定器の不具合も今年度はほぼ解消して，当初計画にほぼ沿った進捗であったと判断している．
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| 今後の研究の推進方策 |
今後も研究目的の達成にむけ．着実に実施をしていく．
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| 次年度使用額が生じた理由 |
当初の計画に比べ実験の評価や応用については年度後半にかかり，次年度にまたがっているために次年度使用が生じているが，次年度の前半で実施できる見込みである．
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